[发明专利]处理靶材的光刻系统和方法

权利要求书

1.一种操作用于处理夹盘(13)上的靶材(23)的靶材处理系统的方法，该方法包括：

在该夹盘(13)上提供至少第一夹盘位置标记(27)和第二夹盘位置标记(28)；

提供对准感测系统(17)，其被设置成用于检测所述第一和第二夹盘位置标记(27，28)，所述对准感测系统(17)至少包括第一对准传感器(61)和第二对准传感器(62)；提供夹盘位置测量系统，该夹盘位置测量系统包括至少两个微分干涉仪(15)，所述至少两个微分干涉仪(15)被设置成测量夹盘(13)相对于所述靶材处理系统的最终投射系统(11)的位置；

提供包括多个水平传感器(57、58、59)的水平传感系统(19)，以及在所述夹盘(13)上提供参考表面(26)；

基于所述对准感测系统(17)的至少一个测量值将所述夹盘(13)移动至第一位置,移动所述夹盘包括移动所述夹盘(13)以使所述第一和第二夹盘位置标记(27，28)与所述第一和第二对准传感器(61，62)对准，以及通过所述第一和第二对准传感器读取所述第一和第二夹盘位置标记；

在第一位置中，使用所述水平传感系统测量所述水平传感器与所述参考表面(26)之间的距离，并且移动所述夹盘(13)以使所述参考表面(26)与所述水平传感器(57、58、59)的水平传感器平面对准；

测量所述夹盘的所述第一位置，其中，测量所述夹盘的第一位置包括测量每个所述微分干涉仪的输出；

基于所述夹盘的第一位置的测量，利用位于所述第一位置处的夹盘(13)来初始化所述微分干涉仪(15)。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一夹盘位置标记(27)和所述第二夹盘位置标记(28)被布置成，所述第一夹盘位置标记(27)和所述第二夹盘位置标记(28)之间的分离距离与所述第一对准传感器(61)和所述第二对准传感器(62)之间的分离距离相同，并且具有相同的空间布置。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述对准感测系统(17)设置成用于在基本上水平的方向中测量所述第一和第二夹盘位置标记。

4.如权利要求1或2所述的方法，进一步包括提供最终投射系统(11)，该最终投射系统设置成将图案化射束(18)投射在所述靶材(23)上，且其中，所述第一对准传感器(61)被设置在第一水平方向中与所述最终投射系统(11)相隔一距离，所述第二对准传感器(62)被设置在第二水平方向中与所述最终投射系统(11)相隔一距离。

5.如权利要求1或2所述的方法，进一步包括将图案化射束(18)投射在所述靶材上，以在所述靶材上形成射束网格(60)，其中，所述第一对准传感器(61)被设置成用于检测在第一水平方向中与所述射束网格(60)相隔一距离处的位置标记，所述第二对准传感器(62)被设置成用于检测在第二水平方向中与所述射束网格(60)相隔一距离处的位置标记(77)。

6.如权利要求5所述的方法，进一步包括确定所述第一和第二对准传感器与所述射束网格(60)之间的空间关系。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述第一和第二对准传感器中的每一个包括：

光源，被设置成用于提供对准光射束；

光强度检测器，被设置成用于确定反射对准光射束的光强度，其中，所述反射对准光射束由于表面(12,26)反射所述对准光射束而被产生；以及

光学系统，被设置成用于将所述对准光射束聚焦在所述表面上并且将所述反射对准光射束引导至所述光强度检测器上。

8.如权利要求1所述的方法，其中，使所述第一和第二夹盘位置标记(27，28)与所述第一和第二对准传感器(61，62)对准包括：使所述第一夹盘位置标记(27)与所述第一对准传感器(61)对准以及使所述第二夹盘位置标记(28)与所述第二对准传感器(62)对准。

9.如权利要求8所述的方法，其中，移动所述夹盘(13)以使所述第一和第二夹盘位置标记(27，28)与所述第一和第二对准传感器(61，62)对准的步骤包括：在两条水平轴中移动所述夹盘并且绕着垂直轴旋转所述夹盘，以实现所述对准。

10.如前述权利要求1、2、8和9中任一项所述的方法，进一步包括储存第一位置作为夹盘初始化位置。