[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法

说明书

技术领域

本发明是关于曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法，详言之，是关于制造半导体元件、液晶显示元件等的光刻工艺中所使用的曝光装置、使用前述曝光装置的平面显示器的制造方法、及使用前述曝光装置的元件制造方法。

背景技术

一直以来，于制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微元件)的光刻工艺中，是采用一边使掩膜或标线片(以下，统称为“掩膜”)与玻璃板或晶圆(以下，统称为“基板”)沿既定扫描方向(scan方向)同步移动、一边将形成于掩膜的图案使用能量束转印至基板上的步进扫描(step & scan)方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称扫描机))等。

作为此种曝光装置，有一种具有在能于扫描方向以长行程移动的X粗动载台上，搭载能于扫描交叉(cross scan)方向(与扫描方向正交的方向)移动的Y粗动载台的重叠型(龙门(gantry)型)载台装置，作为此种载台装置，以例如在由石材形成的平台(surface plate)上沿水平面移动的构成者广为人知(例如，参照专利文献1)。

上述专利文献1的曝光装置，由于重量抵消装置是在对应步进扫描的大范围移动，因此必须于大范围将平台上面(重量抵消装置的移动导引面)的平面度作的高。此外，近年来曝光装置的曝光对象的基板有越来越大型化的倾向，随此，平台亦日渐大型化，因此除成本增加外，曝光装置的搬送性、安装时的作业性恶化等皆受到关心。为此，皆期待有一种能使平台变小的新技术的出现。

先行技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0018950号说明书

发明内容

用以解决课题的手段

为缩小平台，本案发明人已提出一种具备支承重量抵消装置的平台移动于扫描交叉方向的被称为步进平台的平台的曝光装置(美国专利申请第13/221568号)。具备此步进平台的曝光装置，用以引导从下方支承保持曝光对象基板的基板保持构件的重量抵消装置往扫描方向的移动的步进平台，是在能移动于扫描交叉方向的状态下被支承于防振装置的架台上。具备步进平台的曝光装置，由于本身重量亦大的步进平台是在支承有基板保持构件及重量抵消装置等的状态下被驱动于扫描交叉方向，因此在驱动前后，曝光装置整体的重心移动大。因此，最近发现，使用步进平台的曝光装置，会于防振装置施加极大的偏载重，尤其是保持大型基板的基板保持构件变重，因此通过支承基板保持构件的重量抵消装置作用于步进平台、以及进一步通过步进平台作用于架台的偏载重增大，使得曝光动作时因施加至被防振装置支承的架台的偏载重导致曝光装置整体些微的倾斜，而有招致曝光精度降低之虞。

本发明第1态样，提供一种第1扫描型的曝光装置，是在曝光处理时相对曝光用能量束使曝光对象物体在与水平面平行的第1方向以既定第1行程移动，其具备：移动体，能于该第1方向至少以该既定第1行程移动、且能在该水平面内于与该第1方向正交的第2方向以第2行程移动；物体保持构件，能保持该物体、与该移动体一起至少在与该水平面平行的方向移动；重量抵消装置，从下方支承该物体保持构件以抵消该物体保持构件的重量；支承构件，延伸于该第1方向，从下方支承该重量抵消装置并能在从下方支承该重量抵消装置的状态下，于该第2方向以该第2行程移动；支承架台，支承该支承构件；以及载重减轻装置，用以减轻作用于该支承架台的重力方向的载重负荷。

根据此发明，在对物体的曝光处理时，因物体保持构件、重量抵消装置及支承构件本身重量而产生的重力方向(铅直方向向下)的载重负荷虽会作用于支承架台，但会因载重减轻装置而减轻。从而能降低包含物体保持构件、重量抵消装置及支承构件、以及支承架台之系的重心移动而作用于支承架台的偏载重，据此，即能维持充分高的曝光精度。