[发明专利]与间接的冷却装置相匹配的靶有效
| 申请号： | 201380018809.0 | 申请日： | 2013-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN104204286B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | S.克拉斯尼策尔;J.哈格曼 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康表面解决方案股份公司;普费菲孔 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 陈浩然,李婷 |
| 地址： | 瑞士普*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 间接 冷却 装置 匹配 | ||
【权利要求书】：
1. 一种靶，其构造为用于气相沉积方法的材料源、带有前侧和背侧，其特征在于，在所述背侧处粘有自粘性的碳薄膜。
2. 根据权利要求1所述的靶，其特征在于，靶构造为用于溅射方法和/或用于阴极火花蒸镀方法的材料源。
3. 根据上述权利要求中任一项所述的靶，其特征在于，自粘性的碳薄膜的厚度在0.125mm与小于0.5mm之间且优选具有0.125mm的厚度。
4. 一种涂覆源，包括带有前侧和背侧的靶，其背侧布置在源支架处，在源支架中集成有带有冷却通道的间接的冷却部，其特征在于，在靶的背侧处和/或在源支架的这样的壁处粘有自粘性的碳薄膜，靶布置在源支架的该壁处。
5. 根据权利要求4所述的涂覆源，其特征在于，靶为根据权利要求1至3中任一项所述的靶。
6. 根据权利要求4或5中任一项所述的涂覆源，其特征在于，使冷却通道与自粘性的碳薄膜分开的这样的壁构造为柔性的膜片，且自粘性的碳薄膜与膜片形成面接触。
7. 根据权利要求4至6中任一项所述的涂覆源，其特征在于，靶的周围与呈卡口接头的形式的源支架共同作用，由此实现很高且均匀的压紧力。
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