[发明专利]在等离子体处理系统中供给处理气体的方法和装置

权利要求书

1.一种用于将处理气体提供至多个等离子体腔的等离子体处理系统，所述等离子体处理系统包括：

配置成接收所述处理气体的调节器；

与所述调节器连接的蓄积器，其中

所述调节器被配置成调节对所述蓄积器的所述处理气体的供给；

与所述蓄积器连接的共享歧管，其中所述蓄积器被配置成吸收所述共享歧管内的至少一部分压力尖峰和下陷；以及

与所述共享歧管连接的多个质量流控制器，其中所述蓄积器被连接在所述调节器和所述多个质量流控制器之间，并且其中所述多个质量流控制器控制所述处理气体的各部分流出所述共享歧管的支管以进入所述多个等离子体腔。

2.如权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述蓄积器包括气体容纳结构，所述气体容纳结构具有比歧管部分的横截面大的横截面；以及

所述蓄积器与所述歧管部分连接。

3.如权利要求1所述的等离子体处理系统，其还包括过滤器，其中所述过滤器整合在所述蓄积器内并且在所述处理气体被从所述蓄积器提供至所述共享歧管、所述多个质量流控制器和所述多个等离子体腔之前过滤所述处理气体。

4.如权利要求3所述的等离子体处理系统，其中，所述过滤器被整合在所述蓄积器的输入端。

5.如权利要求4所述的等离子体处理系统，其中，所述蓄积器和所述过滤器被配置成允许所述过滤器插入所述蓄积器并通过耦接件固定住，以使得该过滤器是可更换的。

6.如权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述蓄积器是与所述共享歧管同轴地设置的。

7.如权利要求5所述的等离子体处理系统，其中，所述蓄积器通过所述耦接件耦合至所述共享歧管，并且所述耦接件是T形耦接件。

8.如权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述蓄积器远离所述多个质量流控制器布置以使所述蓄积器不被布置在所述多个处理腔的任何一个处。

9.如权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述蓄积器和所述共享歧管的组合体积是没有所述蓄积器时所述共享歧管的体积的至少3倍。

10.一种将处理气体提供给成簇等离子体处理系统的多个等离子体处理腔的气体供给装置，包括：

配置成接收所述处理气体的调节器；

与所述调节器连接的蓄积器，其中

所述调节器被配置成调节对所述蓄积器的所述处理气体的供给；

多个质量流控制器；以及

耦合以将所述处理气体从所述蓄积器提供至所述多个质量流控制器的共享歧管，其中所述蓄积器和所述共享歧管的组合体积是没有所述蓄积器时所述共享歧管的体积的至少3倍，

其中所述蓄积器被配置成吸收所述共享歧管内的至少一部分压力尖峰和下陷，

所述蓄积器被连接在所述调节器和所述多个质量流控制器之间，并且其中所述多个质量流控制器控制所述处理气体的各部分流出所述共享歧管的支管以进入所述多个等离子体处理腔。

11.如权利要求10所述的气体供给装置，其中，所述蓄积器和所述共享歧管的组合体积是没有所述蓄积器时所述共享歧管的体积的3-50倍。

12.如权利要求10所述的气体供给装置，其中，所述蓄积器和所述共享歧管的组合体积是没有所述蓄积器时所述共享歧管的体积的5-20倍。

13.如权利要求10所述的气体供给装置，其中，所述蓄积器和所述共享歧管的组合体积是没有所述蓄积器时所述共享歧管的体积的7-15倍。

14.如权利要求10所述的气体供给装置，其中，所述蓄积器和所述共享歧管的组合体积是没有所述蓄积器时所述共享歧管的体积的8-12倍。

15.如权利要求10所述的气体供给装置，其中，所述蓄积器包括

限定气密体积的外壳；

输入端口；

输出端口；以及

过滤器，其耦合至所述输入端口以使所述过滤器的至少一部分被布置在所述气密体积内，并且由所述过滤器过滤的气体在经由所述输出端口退出之前被释放到所述气密体积内。