[发明专利]全氟化合的分离及回收系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种全氟化合物的分离及回收系统，更详细而言，涉及有效分离在半导体三厂工序中产生的包含六氟化硫的全氟化合物，并在解除或回收全氟化合物的工序中通过多个分离膜时，对每个分离膜施加规定压力以防分离膜被破损以及效率降低而开发的全氟化合物的分离及回收系统。

背景技术

最近，随着地球温暖化而气候及生态系统的变化也逐渐显著，由此，全世界范围内对地球温暖化的关心度增加，并对被认为主要原因的温室气体的排放规制的关心度也增高。

但是，大多数人们作为温室气体只想起由化石燃料而产生的二氧化碳(CO2)，但是，甲烷(CH4)，一氧化二氮(N2O)以及全氟化合物(perfluoro compounds)的氢氟碳化物(HFCs)，全氟化碳(PFCs)以及六氟化硫(SF6)等也是导致地球温暖化的主要原因。

这些相对于急剧增加的二氧化碳的使用量，其比重为12.2％，意味着排放量也相当多，可谓是韩国的主要产业的半导体、显示器、LED、太阳能等的电子相关领域中排放的全氟化合物所占的比率为4.4％，这也占有相当大的比率。

尤其，为了在基板形成规定图案，将六氟化硫利用等离子设备产生F-离子，利用F-离子与绝缘体反应进行蚀刻的工序中会排放很多粉尘和六氟化硫(SF6)以及六氟硅酸(SiF6)等。

并且，CVD清洁室工序是利用等离子蚀刻方法去除涂布有绝缘体(SiO2)的涂层的工序，主要使用气体，此时，会排放粉尘、NF3、F2、SiF4等。

为了保护泵及装备，包含所述粉尘的各种气体与大量氮气混合之后被吸引到干式泵，然后传送到现在大部分仅设有气体洗涤器(gas scrubber)的后处理设备。

最近正开发各种回收系统，该系统利用只让颗粒最小的氮气通过的分离膜分离氮气和其他全氟化合物之后回收氮气，而将全氟化合物传送到回收设备。

但是，上述分离膜，当压力大时，分离膜被破损的可能性急剧变大，而压力小时，分离效率变低，因此，保持适当的压力为极其重要，但是，从一个管道分到多个管道，经过分离膜后聚合的结构中，由于在各个分离膜施加不同的压力，因此，存在分离膜被破损，且效率降低的问题。

发明内容

本发明是为解决如上所述的问题而提出的，其目的在于，开发一种全氟化合物的分离及回收系统，在包含全氟化合物和氮气以及各种掺杂气体的气体被分到多个分离膜并分离氮气的过程中，对每个分离膜作用相同的压力，从而，能够用所设定压力分离。

本发明的其他目的在于，开发一种全氟化合物的分离及回收系统，为了容易分离在电子产业中产生的包含全氟化合物的各种气体，能够提高气体的分离特性。

为达成所述目的，本发明提供一种全氟化合物的分离及回收系统，用于处理在干式蚀刻工序和CVD清洁室等利用全氟化合物而生成且包含在排气产生设备中产生的粉尘的气体，其特征在于，包括：缓冲罐，在一侧形成有扩张管，所述扩张管供使在一个以上的排气产生设备产生的排气流入，截面以锥形扩张，缓冲罐从所述扩张管朝垂直下方长长地延长；水平分配管，一侧与缓冲罐的形成有扩张管的另一侧连接，并朝水平方向长长地延长；多个膜分离过滤器，下端与所述水平分配管相连接，朝垂直上方延长，在内部形成有分离膜，使得粒度小的氮气通过，而包含全氟化合物的掺杂气体不能通过，多个膜分离过滤器相隔开预定间隔设置；掺杂气体排放管道，聚合在多个膜分离过滤器没有通过分离膜的掺杂气体，然后使掺杂气体移动至再处理室；第一氮气回收管道，安装有第一真空泵用于聚合并吸收在所述多个膜分离过滤器通过分离膜的氮气，并通过辅助膜分离过滤器再次分离在所述第一真空泵吸收的氮气，然后使气体移动使得掺杂气体通过掺杂气体排放管道排放，而氮气再利用；第二氮气回收管道，安装有第二真空泵用于吸收在所述辅助膜分离过滤器通过分离膜的氮气，并使氮气移动使得能再利用所述第二真空泵吸收的高纯度的氮气；回收管道，第一感应传感器及第二感应传感器分别感应经过所述第一氮气回收管道的第一真空泵及第二氮气回收管道的第二真空泵的之后的管道内的六氟化硫及三氟化氮，在经过第一真空泵及第二真空泵之后的管道分别设置第一3相阀门及第二3相阀门，使得选择性地进行连接而聚合气体后，使气体再次进入到所述缓冲罐。

在连接有所述缓冲罐的水平分配管的内侧设置有加热装置，在所述加热装置的内部设置有热线使得上升到所设定温度。