[发明专利]真空成膜装置及真空成膜方法无效
| 申请号: | 201380016348.3 | 申请日: | 2013-03-08 |
| 公开(公告)号: | CN104204270A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
| 发明(设计)人: | 川下守;野村文保 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
| 主分类号: | C23C14/00 | 分类号: | C23C14/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 真空 装置 方法 | ||
1.一种真空成膜装置,是在基材上形成成膜物质的膜的真空成 膜装置,其特征在于,防附着板以将被冷却机构冷却了的保护对象 部件的至少一部分覆盖的方式配置,且防止所述成膜物质的颗粒向 所述保护对象部件的附着,所述防附着板以如下方式配置:使包含 所述保护对象部件在内的其他结构物与所述防附着板的接触面的面 积,小于所述防附着板的使成膜物质的颗粒附着的附着膜面的面积, 并且,在所述防附着板的所述保护对象部件侧的除所述接触面之外 的面与包含所述保护对象部件在内的其他结构物之间,设置第1隔 热部件。
2.根据权利要求1所述的真空成膜装置,其特征在于,所述保 护对象部件与成膜源相邻。
3.根据权利要求1或2所述的真空成膜装置,其特征在于,所 述第1隔热部件的厚度为0.3mm以上10mm以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的真空成膜装置,其特征在 于,包含所述保护对象部件在内的其他结构物与所述防附着板的所 述接触面,仅设置在与所述成膜物质的成膜源距离远的一侧。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的真空成膜装置,其特征在 于,使包含所述保护对象部件在内的其他结构物与所述防附着板的 接触,在所述防附着板的端部进行。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的真空成膜装置,其特征在 于,在所述防附着板的所述附着膜面上形成有通过热喷镀法而成膜 的热喷镀膜。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的真空成膜装置,其特征在 于,在安装所述防附着板的部件与所述防附着板接触的接触面上, 以夹入的方式安装有第2隔热部件。
8.一种真空成膜方法,其特征在于,使用权利要求1~7中任一 项所述的真空成膜装置在基材上形成成膜物质的膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社;,未经东丽株式会社;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380016348.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:金色硬质装饰构件
- 下一篇:高强度弹簧用中空无缝管
- 同类专利
- 专利分类





