[发明专利]光学片无效

专利信息
申请号: 201380016174.0 申请日: 2013-03-29
公开(公告)号: CN104254561A 公开(公告)日: 2014-12-31
发明(设计)人: 黃弘九;金炅钟;申宜英;朴昌远;金泰京;金秀知 申请(专利权)人: 可隆工业株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08J7/04;G02B1/10;G02B5/04;G02F1/13357
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 光学
【权利要求书】:

1.一种光学片,包括:具有结构化表面的树脂固化层,该树脂固化层是由含有机化合物和金属氧化物纳米粒子的固化性树脂组合物所形成,其中,在该结构化表面的上表面上,利用平压头以0.2031mN/sec的加压速度加压到最大压应力1gf或2gf,达到最大压应力时保持5秒进行压缩后,解除该压应力时,由以下数学式1表示的弹性恢复率为80%以上,

数学式1

在上述数学式1中,D1表示施加外部压力时凹陷的深度,D2表示未施加外部压力的状态下的光学片高度与解除外部压力而恢复后的光学片高度之差。

2.根据权利要求1所述的光学片,其中,上述有机化合物是包含含有环氧乙烷及苯环的化合物的丙烯酸酯类有机化合物。

3.根据权利要求1或2所述的光学片,其中,上述有机化合物由下列化学式1表示︰

化学式1

X-Y,

在上述化学式1中,X为:

其中,R是氢原子或碳原子数1-15的烷基;n是大于或等于1的整数;a、b及c分别是大于或等于0的整数,且a+b+c≥1;x、y及z分别是0至50的整数;

Y为包含至少一个苯环的化合物;

数学式1

在上述数学式1中,D1表示施加外部压力时的凹陷深度,D2表示未施加外部压力的状态下的光学片高度与解除外部压力而恢复后的光学片高度之差。

4.根据权利要求3所述的光学片,其中,上述包含至少一个苯环的化合物选自由下列化学式2至化学式5表示的化合物,

化学式2

在上述化学式2中,R1至R12中至少一个是分别选自-CKH2KO-、-C(=O)O-(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’-、-(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’O-及-CjH2jNHC(=O)-中(K和K’分别是大于或等于1的整数,j是大于或等于0的整数),且上述R1至R12中至少一个与化学式1的X结合,而上述R1至R12中不与化学式1的X结合的其余基团分别包含氢原子、碳原子数1-15的烷基、碳原子数6至30的芳香族环以及氧原子、氮原子和硫原子中的至少一个;

化学式3

在上述化学式3中,R1至R6中至少一个是分别选自-CKH2KO-、-C(=O)O-(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’-、(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’O及-CjH2jNHC(=O)-中(K和K’分别是大于或等于1的整数,j是大于或等于0的整数),且上述R1至R6中至少一个与化学式1的X结合,而上述R1至R6中不与化学式1的X结合的其余基团分别包含氢原子、碳原子数1-15的烷基、碳原子数6至30的芳香族环以及氧原子、氮原子和硫原子中的至少一个;

化学式4

在上述化学式4中,R1至R10中至少一个是分别选自-CKH2KO-、-C(=O)O-(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’-、-(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’O-及-CjH2jNHC(=O)-中(K和K’分别是大于或等于1的整数,j是大于或等于0的整数),且上述R1至R10中至少一个与化学式1的X结合,而上述R1至R10中不与化学式1的X结合的其余基团分别包含氢原子、碳原子数1-15的烷基、碳原子数6至30的芳香族环以及氧原子、氮原子和硫原子中的至少一个;

化学式5

在上述化学式5中,R1至R18中至少一个是分别选自-CKH2KO-、-C(=O)O-(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’-、-(CH2)K-CH(OH)-(CH2)K’O-及-CjH2jNHC(=O)-中(K和K’分别是大于或等于1的整数,j是大于或等于0的整数),且上述R1至R18中至少一个与化学式1的X结合,而上述R1至R18中不与化学式1的X结合的其余基团分别包含氢原子、碳原子数1-15的烷基、碳原子数6至30的芳香族环以及氧原子、氮原子和硫原子中的至少一个。

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