[发明专利]频闪装置在审
申请号: | 201380016167.0 | 申请日: | 2013-04-05 |
公开(公告)号: | CN104220929A | 公开(公告)日: | 2014-12-17 |
发明(设计)人: | 吉冈弘幸;川端克典 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | G03B15/05 | 分类号: | G03B15/05;G03B15/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘婷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
技术领域
本发明涉及向成为摄像对象的区域照射光的频闪装置。
背景技术
目前,例如公开了直接或间接地设置于数码相机等摄像设备的频闪装置(例如,参照专利文献1)。需要说明的是,频闪装置朝向成为利用摄像设备进行拍摄的摄像对象的区域照射光。
以下,使用图4A和图4B对现有的频闪装置的结构进行说明。图4A是示出现有的频闪装置中光源最靠近反射体的状态的结构的剖视图。图4B是示出现有的频闪装置中光源最远离反射体的状态的结构的剖视图。
如图4A和图4B所示,现有的频闪装置9具备:光源10,其在一方向上形成得长;光学构件11,其与光源10的长度方向平行地配置;以及反射体13,其沿着光源10的长度方向形成得长,并且具有将来自光源10的光朝向光学构件11反射的反射面12。并且,光源10、光学构件11、反射体13沿着频闪装置9的光轴A在光轴A方向上配置。此时,反射体13的反射面12构成为在内侧具有曲率中心且相对于光轴A对称的凹状弯曲的形状。需要说明的是,在内侧具有曲率中心意味着曲率中心比图4A和图4B所示的反射体13的反射面12更靠光轴A侧。
另外,在上述的摄像设备的频闪装置9中,有时使成为摄像对象的区域(视角)的范围变化来进行摄像。因此,通常,这种频闪装置9具有光源10与反射体13的反射面12能够沿着光轴A延伸的光轴A方向相对地进行位移的结构。
具体而言,如图4A所示,就所述频闪装置9而言,随着使光源10与反射体13的反射面12接近,从光源10放射的光的照射区域变窄。另一方面,如图4B所示,就所述频闪装置9而言,随着使光源10与反射体13的反射面12分离,从光源10放射的光的照射区域变宽。
换句话说,现有的频闪装置9能够通过使光源10与反射体13的反射面12沿着光轴A方向相对地进行位移来改变光的照射区域的范围。其结果是,能够与成为摄像对象的区域的范围相应地调节光的照射区域的范围。
此时,为了保护光学构件11不受因光源10的发光而产生的热的影响,现有的频闪装置9以使光源10与光学构件11隔开规定间隔的间隙20的方式配置。因此,存在频闪装置9大型化、光的照射区域变窄的情况。为了避免该情况,现有的频闪装置9使用折射力强的光学构件11。由此,在确保了光的照射区域的范围的同时防止了频闪装置9的大型化。
然而,若使用折射力强的光学构件11,如图4B所示,存在光的照射区域过度扩张的情况。由此,光向要拍摄的对象的区域外照射。其结果是,现有的频闪装置9存在无法用适当光量的光来照射要拍摄的对象的区域整体这样的课题。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开昭55-129326号公报
发明内容
为了解决上述课题,本发明的频闪装置具备:光源,其在一方向上形成得长;光学构件,其与光源的长度方向平行地配置;以及反射体,其沿着光源的长度方向形成得长,并且具有将来自光源的光朝向光学构件反射的反射面。并且,反射面具备与反射面上的特定反射区域相比靠反射体侧形成的第一反射面以及靠光学构件侧形成的第二反射面。而且,第一反射面具有以在反射体的内侧具有曲率中心的方式弯曲的形状,第二反射面具有以在反射体的外侧具有曲率中心且随着靠近光学构件而离开光轴的方式弯曲的形状。
根据该结构,第二反射面具有以在外侧具有曲率中心且随着靠近光学构件而离开光轴中心的方式弯曲的形状。因此,与现有的频闪装置相比,第二反射面增大从光源放射出的光的入射角(与正交于第二反射面的轴相距的角度)。由此,能够使由第二反射面反射后的光的前进方向靠近光轴A方向。换句话说,能够减小光轴A与向光轴A方向前进的光所成的入射角。其结果是,能够抑制由第二反射面反射后的光向所希望的区域外照射。
附图说明
图1A是示出本发明的实施方式的频闪装置中光源最靠近反射体的反射面的状态的结构的剖视图。
图1B是示出该实施方式的频闪装置中光源最远离反射体的反射面的状态的结构的剖视图。
图2是对该实施方式的频闪装置的反射体的反射面的结构进行说明的图。
图3A是在该实施方式的频闪装置与现有的频闪装置中,比较使光源在最靠近反射体的反射面的状态下发光的情况下的光量相对于配光角的相对分布的图。
图3B是在该实施方式的频闪装置与现有的频闪装置中,比较在使光源最远离反射体的反射面的状态下使光源发光的情况下的光量相对于配光角的相对分布的图。
图4A是示出现有的频闪装置中光源最靠近反射体的反射面的状态的结构的剖视图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下知识产权经营株式会社,未经松下知识产权经营株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380016167.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。