[发明专利]具有内部空气分配管道的双平行横向排水沟

权利要求书

1.一种用于在具有过滤介质的过滤系统中使用的双平行暗渠横向排水沟，其包括：

主管道，所述主管道沿着所述暗渠横向排水沟延伸，该主管道具有用于提供气体和液体的多个计量孔；

次级管道，其中所述次级管道具有在其上侧中的多个分散孔眼，以使气体和液体从所述次级管道传输到所述过滤介质；以及

至少一个气体管道，所述至少一个气体管道沿着所述暗渠横向排水沟延伸，其中所述至少一个气体管道连接到气体源并且配置成将气体从所述气体源直接提供到所述主管道、或提供到所述次级管道、或提供到所述主管道与所述次级管道的任意组合。

2.根据权利要求1所述的双平行暗渠横向排水沟，其中所述至少一个气体管道位于所述主管道内。

3.根据权利要求1所述的双平行暗渠横向排水沟，其中所述至少一个气体管道位于所述次级管道内。

4.根据权利要求1所述的双平行暗渠横向排水沟，其中至少一个气体管道位于所述主管道内并且至少第二气体管道位于所述次级管道内。

5.根据权利要求1所述的双平行暗渠横向排水沟，其中所述至少一个气体管道具有沿着所述至少一个气体管道的长度布置的多个气体排出孔。

6.根据权利要求1所述的双平行暗渠横向排水沟，其中所述双平行暗渠横向排水沟在重力过滤系统中使用。

7.根据权利要求1所述的双平行暗渠横向排水沟，其中所述双平行暗渠横向排水沟在上流式过滤系统中使用。

8.一种过滤系统，包括用于过滤工艺液体的过滤介质以及布置在所述过滤介质下面的双平行暗渠横向排水沟，其中所述双平行暗渠横向排水沟包括：

主管道，所述主管道沿着所述暗渠横向排水沟延伸，该主管道具有用于提供气体和液体的多个计量孔；

次级管道，其中所述次级管道具有在其上侧中的多个分散孔眼，以使气体和液体从所述次级管道传输到所述过滤介质；以及

至少一个气体管道，所述至少一个气体管道沿着所述暗渠横向排水沟延伸，其中所述至少一个气体管道连接到气体源并且配置成将气体从所述气体源直接提供到所述主管道、或提供到所述次级管道、或提供到所述主管道与所述次级管道的任意组合。

9.根据权利要求8所述的过滤系统，其中所述至少一个气体管道位于所述主管道内。

10.根据权利要求8所述的过滤系统，其中所述至少一个气体管道位于所述次级管道内。

11.根据权利要求8所述的过滤系统，其中至少一个气体管道位于所述主管道内并且至少第二气体管道位于所述次级管道内。

12.根据权利要求8所述的过滤系统，其中所述至少一个气体管道具有沿着所述至少一个气体管道的长度布置的多个气体排出孔。

13.根据权利要求8所述的过滤系统，其中所述过滤系统包括重力过滤系统。

14.根据权利要求8所述的过滤系统，其中所述过滤系统包括上流式过滤系统。

15.一种回流过滤介质的方法，其包括以下步骤：将处于一定压力下的气体供应到在双平行暗渠横向排水沟中设置的至少一个气体管道中的步骤，其中所述双平行暗渠横向排水沟布置在所述过滤介质下方并且该双平行暗渠横向排水沟内具有主管道和次级管道；至少在次级管道中形成气穴的步骤；以及通过在所述双平行暗渠横向排水沟的壁中的分散孔眼将气体提供到所述过滤介质的步骤。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述至少一个气体管道位于所述主管道内。

17.根据权利要求16所述的方法，进一步包括在所述主管道中形成气穴的步骤。

18.根据权利要求15所述的方法，其中所述至少一个气体管道位于所述次级管道内。

19.根据权利要求15所述的方法，其中至少一个气体管道位于所述主管道内并且至少第二气体管道位于所述次级管道内。

20.根据权利要求19所述的方法，进一步包括在所述主管道中形成气穴的步骤。