[发明专利]含氰排水的处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种含氰排水的处理方法，特别是涉及一种通过碱氯法对含氰排水进行处理的方法。

背景技术

作为由镀敷工场、制铁所、冶炼所、发电站、焦炭制造工场等产业设施所排出的含氰排水的处理方法，目前最广泛地采用的方法为碱氯法。在该方法中，将氯源、例如次氯酸钠在碱性条件下添加至含氰排水中，对排水中的氰进行氧化处理(专利文献1、2)。

在专利文献1的碱氯法中，利用如以下所示的pH值及氧化还原电位(Oxidation-Reduction Potential，ORP)控制值下的二阶段反应将氰化合物氧化分解。

第一阶段反应：pH值为10以上，ORP控制值为300mV～350mV

NaCN+NaOCl→NaCNO+NaCl        (1)

第二阶段反应：pH值为7～8，ORP控制值为600mV～650mV

2NaCNO+3NaClO+H₂O→N₂+3NaCl+2NaHCO₃   (2)

在专利文献2中，记载有通过碱氯法的二阶段反应对含有氨的含氰排水进行处理的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-269674

专利文献2：日本特开2006-334508

发明内容

发明要解决的课题

本发明人等进行了研究，结果发现，在含氰排水含有铵离子及有机物的情形时，若应用碱氯法，则在第一阶段的反应中氰化合物未被充分氧化。

即，在现有的碱氯法的第一阶段反应中的通常的pH值范围的pH值为10～10.5、ORP为300mV～350mV的条件下，对含有铵离子及有机物的氰进行处理的情形时，氰化合物的分解不充分。另外，即便追加NaClO而将ORP提高至400mV以上，总氰浓度也不降低。为了以pH值为11以上且ORP成为300mV～350mV的方式进行控制，需要进一步过剩的氯源，可能成本变高并且钢材发生腐蚀。

如此地在碱氯法的第一阶段反应中氰化合物未被充分氧化，则不仅第二阶段的反应不进行，而且可能在第二阶段反应中氰化合物与次氯酸钠反应而产生氯化氰(CNCl)。

另外，在含有铵离子及有机物的含氰排水中添加氯源的情形时，若pH值小于11，则铵离子与氯源反应而生成结合氯。该结合氯与有机物反应而生成氰，因此，也存在含氰排水的氰浓度不降低，反而会上升的情况。

本发明的目的在于，解决上述以往的问题，提供一种含氰排水的处理方法，其即使在含氰排水含有铵离子及有机物的情形时，也能够将氰化合物充分地氧化分解。另外，本发明在其一实施方式中，目的在于提供一种含氰排水的处理方法，其防止垢(scale)生成。

解决课题的方法

本发明的含氰排水的处理方法，其在含有氰化合物的含氰排水中添加氯源来分解氰化合物，其特征在于，该含氰排水含有铵离子和有机物，将该含氰排水的pH值调整为11以上，并且以即使在氰化合物分解反应后游离残留氯浓度也在0.1mg/L以上的方式来添加上述氯源。

作为氯源，优选为次氯酸钠、氯及漂白粉(bleaching powder)中的至少一种。

在本发明的一个方案中，在含氰排水中进一步添加膦酸系防垢剂。

作为膦酸系防垢剂，优选为选自1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸、2-膦酰基丁烷-1,2,4-三羧酸及它们的盐中的至少一种。

在本发明中，优选为以上述游离残留氯浓度成为0.1mg/L～1mg/L的方式添加上述氯源。

另外，优选在上述含氰排水中添加碱剂而将pH值调整为11～12.5。在该情形时，优选为将碱剂与防垢剂混合，以一液的形式添加。

上述含氰排水的溶解性铁的浓度优选为0.4mg/L以下。

优选将含氰排水的水温设定为40℃以上，例如40℃～80℃，特别优选为50℃～70℃。

发明的效果

在本发明的含氰排水的处理方法中，对含有铵离子及有机物的含氰排水在pH值为11以上的条件下添加氯源。若pH值为11以上，则抑制氯源与铵离子的反应，由此抑制结合氯的生成，其结果也抑制由结合氯与有机物的反应所致的氰生成。

通过在含氰排水中添加膦酸系防垢剂，防止(包括抑制)垢的产生。

为了将pH值调整为11以上，优选为添加碱剂。若将该碱剂与防垢剂混合，以一液的形式添加，则防止注药(药剂注入)泵或注药配管中的垢故障(trouble)。