[发明专利]模具、抗蚀剂积层体及其制造方法以及凹凸结构体有效

专利信息
申请号: 201380014072.5 申请日: 2013-03-11
公开(公告)号: CN104170056B 公开(公告)日: 2017-07-21
发明(设计)人: 古池润 申请(专利权)人: 旭化成株式会社
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;B29C33/38;B29C33/42;B29C59/02;B32B3/26
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 李晓
地址: 日本国东京都千代*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 模具 抗蚀剂积层体 及其 制造 方法 以及 凹凸 结构
【权利要求书】:

1.一种模具,其为表面的一部分或全部表面上具备微细图样的模具,其特征在于,

所述微细图样,凸部顶部宽度lcv和凹部开口宽度lcc的比例(lcv/lcc)与所述微细图样的单元面积Scm的区域下存在的开口部面积Sh和所述单元面积Scm的比例(Sh/Scm)满足下述式(5),同时

所述比例(Sh/Scm)满足下述式(2),所述比例(lcv/lcc)满足下述式(3),并且所述微细图样的高度H满足下述式(4),

式(5)

<mrow><msqrt><mn>0.76</mn><mo>/</mo><mrow><mo>(</mo><mi>Sh</mi><mo>/</mo><mi>Scm</mi><mo>)</mo></mrow></msqrt><mo>-</mo><mn>1</mn><mo>&le;</mo><mi>lcv</mi><mo>/</mo><mi>lcc</mi><mo>&le;</mo><msqrt><mn>0.93</mn><mo>/</mo><mrow><mo>(</mo><mi>Sh</mi><mo>/</mo><mi>Scm</mi><mo>)</mo></mrow></msqrt><mo>-</mo><mn>1</mn></mrow>

式(2)

0.23<(Sh/Scm)≦0.99

式(3)

0.01≦(lcv/lcc)<1.0

式(4)

50nm≦H≦1500nm。

2.根据权利要求1所述的模具,其特征在于,构成所述微细图样的凹部,其直径随着从底部朝向开口部方向而增大。

3.根据权利要求1所述的模具,其特征在于,所述微细图样满足下述式(6),

式(6)

<mrow><msqrt><mn>0.78</mn><mo>/</mo><mrow><mo>(</mo><mi>Sh</mi><mo>/</mo><mi>Scm</mi><mo>)</mo></mrow></msqrt><mo>-</mo><mn>1</mn><mo>&le;</mo><mi>lcv</mi><mo>/</mo><mi>lcc</mi><mo>&le;</mo><msqrt><mn>0.91</mn><mo>/</mo><mrow><mo>(</mo><mi>Sh</mi><mo>/</mo><mi>Scm</mi><mo>)</mo></mrow></msqrt><mo>-</mo><mn>1</mn><mo>.</mo></mrow>

4.根据权利要求2所述的模具,其特征在于,所述微细图样满足下述式(7),

式(7)

0.4≦(Sh/Scm)≦0.95。

5.根据权利要求4所述的模具,其特征在于,所述微细图样满足下述式(8),

式(8)

0.6≦(Sh/Scm)≦0.93。

6.根据权利要求1至权利要求5中任意一项所述的模具,其特征在于,相对于所述微细图样的水滴的接触角为90度以上。

7.根据权利要求1至权利要求5中任意一项所述的模具,其特征在于,所述微细图样含有选自由甲基、氟元素或硅元素形成的组中的1种以上的要素。

8.根据权利要求1至权利要求5中任意一项所述的模具,其特征在于,所述模具的弯曲弹性模量为5Mpa以上10Gpa以下。

9.根据权利要求1至权利要求5中任意一项所述的模具,其特征在于,其使用于LED用基板的加工。

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