[发明专利]吸收性偏光片和制造该偏光片的方法无效

专利信息
申请号: 201380012950.X 申请日: 2013-03-04
公开(公告)号: CN104160307A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 赵敏成 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 朱梅;李海明
地址: 韩国全*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 吸收性 偏光 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种即使当其长时间暴露于热和潮湿的环境中时仍具有优异的耐久性的吸收性偏光片,以及制造该偏光片的方法。

背景技术

偏光片是指一种从非偏振光(例如自然光)中提取具有特定振动方向的直线偏振光的光学器件。

通常,广泛使用具有足够高的透射率和偏振度的碘染色的基于聚乙烯醇膜的吸收性偏光片。然而,这样的基于聚乙烯醇膜的吸收性偏光片伴随着碘的高升华性、低耐久性以及由于通过膜拉伸来制造偏光片导致的高加工成本的缺点。

此外,对应于高性能、尺寸的增加且减少图像显示器的膜厚度的要求,偏光片也需要高性能和光学性能的改进的多样性。另外,已经提出了满足上述需求的改进的偏光片和制造该偏光片的不同方法。

例如,已经提出了一种在热塑性树脂中添加二色性染料后的热塑性树脂挤出方法。然而,该方法具有由于二色性染料的低效排列而使偏振性能劣化的缺点。

可选择地,已经提出了通过用具有线性纳米结构的共聚物和二色性染料的混合溶液涂布偏光片来使偏光片中的二色性染料排列的方法(参见韩国专利公开第2010-0090921号)。然而,其难以确保二色性染料在平面内排列的均匀性,这从而可能导致差的偏光性能。此外,如果偏光片长时间暴露在热和潮湿的环境中,其具有降低的耐久性,因此,具有不能保持偏光性能的缺点。

发明内容

【本发明所要解决的技术问题】

因此,本发明的一个目的是提供一种即使当其长时间暴露于热和潮湿的环境下仍具有优异的耐久性、能够保持偏光性能(例如偏振度、透射率等)的吸收性偏光片。

另外,本发明的另一目的是提供一种制造具有在平面内的纳米颗粒均匀性的吸收性偏光片的方法,由此,所述吸收性偏光片具有等于或大于通常通过拉伸方法制备的任何常规吸收性偏光片的偏光度和透射率。

【解决上述技术问题的手段】

本发明人已经发现,可以通过将特定的嵌段共聚物与包括光吸收元件或其氧化物或复合物的纳米颗粒混合,并利用嵌段共聚物的自组装,而无需任何额外的拉伸处理,以提供一种具有优异的偏光性能以及耐久性的改进的吸收性偏光片。

根据本发明的一个方面,提供一种吸收性偏光片,其包括:纳米复合层,其中,包括光吸收元件或其氧化物或复合物的纳米颗粒选择性地包含在嵌段共聚物中,所述嵌段共聚物具有分别地排列在其中的第一嵌段和第二嵌段。

所述纳米颗粒可以经过表面处理,从而具有对第一嵌段或第二嵌段的亲和力。

所述纳米颗粒可以具有1至100nm的平均直径。

所述光吸收元件或其氧化物或复合物可以是选自Ag、Au、Pt、Ti、Fe、Co、Cr、Cu、Ni、Zn、Mn、Cd、W、Al、Pb、Ga、Si、As、Fe2O3、Fe3O4、CrO2、SiO2、Al2O3、TiO2、PbS、FeS2、ZnS、GaP、GaAs、InP、InAs、InSb和CdSe中的至少一种。

相对于100重量份的嵌段共聚物,所述纳米颗粒的含量可以为0.01至30重量份。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东友精细化工有限公司,未经东友精细化工有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380012950.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top