[发明专利]包含末端官能化的离子有机硅的个人护理组合物有效
| 申请号: | 201380011220.8 | 申请日: | 2013-01-03 |
| 公开(公告)号: | CN104159640B | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
| 发明(设计)人: | A.萨卡;A.萨克塞纳;S.蒂瓦里;B.法尔克 | 申请(专利权)人: | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 |
| 主分类号: | A61K8/899 | 分类号: | A61K8/899;A61Q19/00;A61Q1/04;A61Q5/06;A61Q5/12;A61Q17/04;A61K8/896;A61K8/898 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 沈斌 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 包含 末端 官能 离子 有机硅 个人 护理 组合 | ||
相关申请的交叉引用
本申请涉及并要求在2012年1月4日提交的美国临时专利申请61/582,914的权益,其全部内容通过引用来合并到本文中。
技术领域
本发明涉及离子有机硅在个人护理组合物中的用途。
背景技术
JP 6,247,827和JP 6,247,835公开了制备磺酸根-官能化的有机硅的方法以及其在个人护理组合物中的用途。然而,这些方法并未公开将末端官能化的离子有机硅引入在个人护理组合物中。
发明内容
提供了个人护理组合物,其含有至少一种个人护理组分和至少一种末端官能化的具有下式的离子有机硅:
M1aM2bM3cD1dD2eD3fT1gT2hT3iQj (I)
其中:
M1=R1R2R3SiO1/2
M2=R4R5R6SiO1/2
M3=R7R8R9SiO1/2
D1=R10R11SiO2/2
D2=R12R13SiO2/2
D3=R14R15SiO2/2
T1=R16SiO3/2
T2=R17SiO3/2
T3=R18SiO3/2
Q=SiO4/2
其中:
R1,R2,R3,R5,R6,R8,R9,R10,R11,R13,R15和R16各自独立地是具有1到60个碳原子的脂肪族、芳香族或氟代的一价烃基团;
R4,R12和R17各自独立地是带有离子对并具有式-A-Ix-Mny+的一价基团,或具有式-R'-N+(R")2-R"'-I–的两性离子,其中A是具有至少一个间隔原子的间隔结构部分(spacing moiety),该间隔结构部分选自二价烃基团和烃氧基(hydrocarbonoxy)基团,I是离子基团,R'是具有1到20个碳原子的二价烃基,R"是具有1到20个碳原子的一价烃基,R"'是具有2到20个碳原子的二价烃基,并且M各自独立地是氢或独立地选自碱金属、碱土金属、过渡金属、季铵基和磷鎓基中的阳离子;
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