[发明专利]有机发光二极管有效
申请号: | 201380010785.4 | 申请日: | 2013-02-21 |
公开(公告)号: | CN104115299A | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | T.韦卢斯;C.迪茨;S.赛德尔;U.尼德迈尔;A.耶格;N.里格尔 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 杜荔南;刘春元 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光二极管 | ||
技术领域
说明一种有机发光二极管。
发明内容
要解决的任务在于,说明一种有机发光二极管,其辐射具有高的色彩还原指数。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,该发光二极管包括镜。该镜被设置为反射在发光二极管运行中生成的辐射、尤其是可见辐射达至少50%或者达至少80%或者达至少95%。该镜尤其是对于可见光为不可透过的。例如,该镜是包括银和/或铝或由其制成的金属镜。该镜也可以形成发光二极管的电极、例如阴极。
根据至少一个实施方式,该发光二极管包含一个或多个有机层序列。该有机层序列完全或部分地基于有机材料。该有机层序列优选地与该镜直接接界,并且整面地或局部地接触该镜。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,该有机层序列具有一个或多个第一活性层。第一活性层被设置为生成第一辐射。第一辐射尤其是蓝光或红光。
根据至少一个实施方式,该有机层序列具有恰好两个或两个以上第二活性层。第二活性层被分别设置为生成第二辐射。第二辐射可以优选地为混合辐射。第二辐射尤其是黄光、橙光或者青色光。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,活性层沿着远离镜的主方向相叠布置。活性层的主延伸方向于是优选地被定向为与镜平行。换言之,在俯视该发光二极管的情况下,活性层完全或部分彼此重叠。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,至少在活性层中的两个活性层之间或者分别在两个相邻活性层之间存在载流子生成层、英语charge generation layer(电荷生成层)或者简称CGL。该发光二极管优选地具有载流子生成层中的至少两个或恰好两个。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,所述至少两个第二活性层分别具有相同的至少两种彼此不同的辐射活性的有机材料。第二活性层尤其是分别具有恰好两种辐射活性的有机材料。该辐射活性的有机材料可以分别是荧光材料或磷光材料。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,第一活性层具有恰好一种或多种辐射活性的有机材料。第一活性层的辐射活性的有机材料中的一种或至少一种或所有辐射活性的有机材料不同于第二活性层的辐射活性的有机材料。换言之,第二活性层与第一活性层的不同之处在于辐射活性的有机材料中的至少一种。第一层的辐射活性的有机材料也可以是荧光材料或磷光材料。
在该有机发光二极管的至少一个实施方式中,该有机发光二极管包括镜和有机层序列。该有机层序列包含用于生成第一辐射的第一活性层以及用于生成第二辐射的至少两个第二活性层。所述活性层沿着远离镜的主方向相叠布置。在两个相邻的活性层之间分别存在载流子生成层。第二活性层分别具有相同的至少两种辐射活性的有机材料。第一活性层具有与此不同的辐射活性的有机材料。
因此可能的是,在材料组成方面,该有机发光二极管具有仅仅两种彼此不同构成的活性层类型。由此,该发光二极管可以有效地和低成本地制造。通过使用总共至少三个或恰好三个活性层、即第一活性层以及至少两个第二活性层,可以实现由发光二极管生成的辐射的高色彩还原指数。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,该发光二极管具有光学交界面,在所述光学交界面处存在发光二极管的至少两种材料之间的折射率跳变。该折射率跳变尤其是存在于有机层序列与接界的、尤其是至少部分地为辐射可透过的电极之间的交界面处。该光学交界面可以位于有机层序列的背向镜的侧处。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,由该镜和光学交界面形成光学腔。换言之,该腔由镜和反射性光学交界面来限制和定义。该光学腔可以具有与Fabry-Perot元件和/或谐振器类似的光学特性。但是该腔特别优选地不是用于生成激光辐射的谐振器。由该有机发光二极管发射的辐射优选地是非相干辐射并且不是激光辐射。
根据该发光二极管的至少一个实施方式,该腔沿着主方向具有多个强度最大值。术语“强度最大值”尤其是涉及自相干最小值。也就是说:如果在沿着主方向的点处发射的辐射落到镜上,经历π的相位跳变并且实际上与自身进行相长干涉,则存在强度最大值,在相消干涉的情况下存在强度最小值。强度最大值的位置依赖于有机层序列内的折射率变化曲线以及有关辐射的波长。
根据至少一个实施方式,活性层沿着主方向分别位于强度最大值中或强度最大值处。这可以是指,活性层与有关强度最大值重叠。例如,活性层的几何中心沿着主方向以最高10nm或最高20nm或最高30nm的公差处于相应强度最大值处。
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