[发明专利]补充组合物和补充预处理组合物的方法

权利要求书

1.一种补充预处理组合物的方法，其包含：

将补充剂组合物加入该预处理组合物中，其中该补充剂组合物包含锆甲烷磺酸，以及其中所述补充组合物具有与预处理组合物不同的配方。

2.权利要求1的方法，其中该补充剂组合物进一步包含溶解的络合物金属氟化物离子，其中该金属离子包括IIIA族金属、IVA族金属、IVB族金属或者其组合。

3.权利要求2的方法，其中该补充剂组合物的溶解的络合物金属氟化物离子包括H₂TiF₆、H₂ZrF₆、H₂HfF₆、H₂SiF₆、H₂GeF₆、H₂SnF₆或者其组合。

4.权利要求2的方法，其中该溶解的络合物金属氟化物离子的金属包括钛、锆、铪、铝、硅、锗、锡或者其组合。

5.权利要求1的方法，其中该补充剂组合物进一步包含这样的组分，该组分包含IIIA族金属、IVA族金属、IVB族金属的氧化物、氢氧化物、碳酸盐或者其组合。

6.权利要求5的方法，其中该包含IIIA族金属、IVA族金属、IVB族金属的氧化物、氢氧化物、碳酸盐或者其组合的组分包括氧锆基化合物。

7.权利要求6的方法，其中该氧锆基化合物包括硝酸氧锆、乙酸氧锆、碳酸氧锆、质子化的碱式碳酸锆、硫酸氧锆、氯化氧锆、碘化氧锆、溴化氧锆或者其组合。

8.权利要求1的方法，其中该补充剂组合物进一步包含：

溶解的络合物金属氟化物离子，其中该金属离子包括IIIA族金属、IVA族金属、IVB族金属或者其组合；和

包含IIIA族金属、IVA族金属、IVB族金属的氧化物、氢氧化物、碳酸盐或者其组合的组分。

9.权利要求1的方法，其中该补充剂组合物进一步包含：

溶解的金属离子，其包含IB族金属、IIB族金属、VIIB族金属、VIII族金属、镧系金属或者其组合。

10.权利要求9的方法，其中该包含IB族金属、IIB族金属、VIIB族金属、VIII族金属、镧系金属或者其组合的溶解的金属离子包括锰、铈、钴、铜、锌或者其组合。

11.权利要求5的方法，其中该补充剂组合物进一步包含：

溶解的金属离子，其包含IB族金属、IIB族金属、VIIB族金属、VIII族金属、镧系金属或者其组合。

12.权利要求11的方法，其中该包含IB族金属、IIB族金属、VIIB族金属、VIII族金属、镧系金属或者其组合的溶解的金属离子包括锰、铈、钴、铜、锌或者其组合。

13.权利要求1的方法，其中将该补充剂组合物以这样的量加入预处理组合物中，该量足以将预处理组合物的总金属离子含量保持到10ppm-250ppm。

14.权利要求8的方法，其中该补充剂组合物进一步包含：

溶解的金属离子，其包含IB族金属、IIB族金属、VIIB族金属、VIII族金属、镧系金属或者其组合。

15.权利要求14的方法，其中该包含IB族金属、IIB族金属、VIIB族金属、VIII族金属、镧系金属或者其组合的溶解的金属离子包括锰、铈、钴、铜、锌或者其组合。

16.权利要求1的方法，其进一步包括搅拌该补充剂组合物和预处理组合物。

17.用根据权利要求1的方法补充的预处理组合物。

18.一种处理基材的方法，其包括将该基材与权利要求17的补充的预处理组合物接触。

19.一种处理的基材，其是根据权利要求18的方法形成的。