[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其具有如下研磨工序：将至少具有一对主表面和构成内孔及外形的2个侧壁面的面包圈型的玻璃基板保持在载具中，在该状态下用安设于研磨定盘的研磨垫夹住所述一对主表面，向所述一对主表面供给研磨液，同时利用所述载具的行星齿轮运动来研磨所述玻璃基板，

该制造方法的特征在于，所述研磨液含有利用湿式法制造的氧化锆颗粒作为研磨磨粒。

2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化锆颗粒是粒径为70nm～200nm的范围内的一次颗粒集合而成的。

3.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化锆颗粒的BET比表面积处于4m²/g～15m²/g的范围内。

4.如权利要求2或3所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化锆颗粒的平均粒径D50处于0.2μm～0.6μm的范围内。

5.如权利要求2～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在将所述氧化锆颗粒的一次颗粒的长轴的长度设为X1、将与长轴正交的短轴的长度设为X2时，X1/X2为1.0～1.3。

6.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，与所述玻璃基板的侧壁面接触的所述载具的端面的表面粗糙度为5μm以下。

7.如权利要求1～5中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用具有所述氧化锆颗粒的研磨液进行研磨之前的玻璃基板的侧壁面的表面粗糙度以算术平均粗糙度Ra计为0.1μm以下。

8.如权利要求1～7中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述研磨工序之后具有如下化学强化工序：在所述玻璃基板的断裂韧性值K_1c在利用维氏硬度计的测量中为0.7MPa/m^1/2以上的处理条件下，对所述玻璃基板进行化学强化。

9.如权利要求1～8中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述磁盘用玻璃基板的直径大于2.5英寸大小、且板厚为0.6mm以下。