[发明专利]利用氧化铝层钝化太阳能电池的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201380008784.6 申请日: 2013-02-06
公开(公告)号: CN104105814B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: T.迪佩尔;B.鲁斯;O.霍恩;T.杜尔韦伯;N-P.哈德尔;M.西贝尔特 申请(专利权)人: 辛古勒斯技术股份公司
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;H01L21/02;C23C16/509;H01J37/32;C23C16/455
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 郑冀之,陈岚
地址: 德国美因*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 氧化铝 钝化 太阳能电池 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种利用AlOx层(12)涂覆基板(10)的方法,包括以下方法步骤:

(a)提供包括反应室(22)和至少一个RF电感(24)的电感耦合等离子体源(ICP源)(20),从而使产生等离子体所需的能量直接耦合到所述反应室,

(b)将铝化合物引入所述ICP源(20),

(c)将作为反应气体的氧和/或氧化合物引入所述ICP源,并且将能量与所述ICP源(20)电感耦合以形成等离子体(30),以及

(d)在所述基板(10)上沉积所述AlOx层(12),

(e)提供包括第二反应室和第二至少一个RF电感的第二ICP源,其中所述第二反应室紧挨着所述第一反应室布置,

(f)将硅化合物和反应气体引入所述第二ICP源,并且将能量电感耦合到所述第二ICP源,

(g)在所述AlOx层之上沉积一含硅层。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述含硅层为SiNy或SiOx或SiCz层。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基板(10)由硅组成。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,等离子体密度至少为1x1011离子/cm3

5.根据权利要求4所述的方法,其中,等离子体密度为1x1012离子/cm3至9x1013离子/cm3

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中,离子能量的范围是1至30eV之间。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,在所述反应室(22)中存在10-4至10-1mbar的真空。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,在所述反应室(22)中存在10-3至5*10-2mbar的所述真空。

9.根据权利要求6所述的方法,其中,以1-60MHz的频率实施能量的电感耦合。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,以13.56MHz的频率实施能量的电感耦合。

11.根据权利要求6所述的方法,其中,所述基板温度处于室温至450℃的范围内。

12.根据权利要求6所述的方法,其中,等离子体功率为0.5至10kW。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,等离子体功率为3.5至6kW。

14.根据权利要求6所述的方法,其中,所述等离子体密度和所述离子能量相互独立地受到控制。

15.一种用于在基板(10)上沉积薄层的涂覆部件,包括:

(a)包括反应室(22)和至少一个RF电感(24)的电感耦合等离子体源(ICP)(20),从而使产生等离子体所需的能量直接耦合到所述反应室,

(b)在所述反应室(22)中用于布置至少一个基板(10)的基板支架(11),以及

(c)用于将铝化合物和反应气体引入所述ICP源(20)的通道(26,28),

(d)其中,所述基板(10)在所述反应室(22)中布置成使得所述基板(10)的待涂覆的表面面向所述ICP源(20),

(e)各自具有反应室和至少一个RF电感的至少一个另外的电感耦合等离子体源(ICP),以及

(f)用于将硅化合物和反应气体引入所述另外的ICP源的通道。

16.根据权利要求15所述的涂覆部件,其中,所述ICP源或数个ICP源的电感(124)布置在对应的反应室(122)之外并且借助于介电分隔壁(123)与反应室隔开。

17.根据权利要求1至14中任一项所述的方法用于钝化的用途或根据权利要求15或16所述的涂覆部件用于钝化的用途。

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