[发明专利]利用氧化铝层钝化太阳能电池的方法和装置有效
申请号: | 201380008784.6 | 申请日: | 2013-02-06 |
公开(公告)号: | CN104105814B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | T.迪佩尔;B.鲁斯;O.霍恩;T.杜尔韦伯;N-P.哈德尔;M.西贝尔特 | 申请(专利权)人: | 辛古勒斯技术股份公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;H01L21/02;C23C16/509;H01J37/32;C23C16/455 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 郑冀之,陈岚 |
地址: | 德国美因*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 氧化铝 钝化 太阳能电池 方法 装置 | ||
1.一种利用AlOx层(12)涂覆基板(10)的方法,包括以下方法步骤:
(a)提供包括反应室(22)和至少一个RF电感(24)的电感耦合等离子体源(ICP源)(20),从而使产生等离子体所需的能量直接耦合到所述反应室,
(b)将铝化合物引入所述ICP源(20),
(c)将作为反应气体的氧和/或氧化合物引入所述ICP源,并且将能量与所述ICP源(20)电感耦合以形成等离子体(30),以及
(d)在所述基板(10)上沉积所述AlOx层(12),
(e)提供包括第二反应室和第二至少一个RF电感的第二ICP源,其中所述第二反应室紧挨着所述第一反应室布置,
(f)将硅化合物和反应气体引入所述第二ICP源,并且将能量电感耦合到所述第二ICP源,
(g)在所述AlOx层之上沉积一含硅层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述含硅层为SiNy或SiOx或SiCz层。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基板(10)由硅组成。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,等离子体密度至少为1x1011离子/cm3。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,等离子体密度为1x1012离子/cm3至9x1013离子/cm3。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中,离子能量的范围是1至30eV之间。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,在所述反应室(22)中存在10-4至10-1mbar的真空。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,在所述反应室(22)中存在10-3至5*10-2mbar的所述真空。
9.根据权利要求6所述的方法,其中,以1-60MHz的频率实施能量的电感耦合。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,以13.56MHz的频率实施能量的电感耦合。
11.根据权利要求6所述的方法,其中,所述基板温度处于室温至450℃的范围内。
12.根据权利要求6所述的方法,其中,等离子体功率为0.5至10kW。
13.根据权利要求12所述的方法,其中,等离子体功率为3.5至6kW。
14.根据权利要求6所述的方法,其中,所述等离子体密度和所述离子能量相互独立地受到控制。
15.一种用于在基板(10)上沉积薄层的涂覆部件,包括:
(a)包括反应室(22)和至少一个RF电感(24)的电感耦合等离子体源(ICP)(20),从而使产生等离子体所需的能量直接耦合到所述反应室,
(b)在所述反应室(22)中用于布置至少一个基板(10)的基板支架(11),以及
(c)用于将铝化合物和反应气体引入所述ICP源(20)的通道(26,28),
(d)其中,所述基板(10)在所述反应室(22)中布置成使得所述基板(10)的待涂覆的表面面向所述ICP源(20),
(e)各自具有反应室和至少一个RF电感的至少一个另外的电感耦合等离子体源(ICP),以及
(f)用于将硅化合物和反应气体引入所述另外的ICP源的通道。
16.根据权利要求15所述的涂覆部件,其中,所述ICP源或数个ICP源的电感(124)布置在对应的反应室(122)之外并且借助于介电分隔壁(123)与反应室隔开。
17.根据权利要求1至14中任一项所述的方法用于钝化的用途或根据权利要求15或16所述的涂覆部件用于钝化的用途。
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