[发明专利]硫化物固体电解质材料、电池和硫化物固体电解质材料的制造方法有效
申请号: | 201380007125.0 | 申请日: | 2013-02-05 |
公开(公告)号: | CN104185873B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 菅野了次;平山雅章;加藤祐树;大友崇督;坂野充 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社 |
主分类号: | H01B1/06 | 分类号: | H01B1/06;C01B33/06;H01B1/10;H01B13/00;H01M4/62;H01M10/0562 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 金世煜,苗堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硫化物 固体 电解质 材料 电池 制造 方法 | ||
1.一种硫化物固体电解质材料,其特征在于,含有M1元素、M2元素和S元素,
所述M1至少含有Li,
所述M2是选自P、Sb、Si、Ge、Sn、B、Al、Ga、In、Ti、Zr、V、Nb中的至少一种,
在使用了CuKα射线的X射线衍射测定中的2θ=29.58°±0.50°的位置具有峰,
将所述2θ=29.58°±0.50°的峰的衍射强度设为IA,将2θ=27.33°±0.50°的峰的衍射强度设为IB时,IB/IA的值小于0.50,
所述M2至少含有P和Si。
2.一种硫化物固体电解质材料,其特征在于,含有M1元素、M2元素和S元素,
所述M1至少含有Li,
所述M2是选自P、Sb、Si、Ge、Sn、B、Al、Ga、In、Ti、Zr、V、Nb中的至少一种,
在使用了CuKα射线的X射线衍射测定中的2θ=29.58°±0.50°的位置具有峰,
在使用了CuKα射线的X射线衍射测定中的2θ=27.33°±0.50°的位置不具有峰,或者
在所述2θ=27.33°±0.50°的位置具有峰的情况下,将所述2θ=29.58°±0.50°的峰的衍射强度设为IA、将所述2θ=27.33°±0.50°的峰的衍射强度设为IB时,IB/IA的值小于0.50,
所述M2至少含有P和Si。
3.根据权利要求1或2所述的硫化物固体电解质材料,其特征在于,所述M2含有除P和Si以外的其他元素。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的硫化物固体电解质材料,其特征在于,Si相对于除P以外的所述M2的摩尔分数为30%以上。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的硫化物固体电解质材料,其特征在于,在所述2θ=29.58°±0.50°的位置具有峰的结晶相中,晶格常数的a轴长为以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的硫化物固体电解质材料,其特征在于,以所述M2的摩尔分数的合计为1时,所述M1的摩尔分数为3.35以上。
7.一种硫化物固体电解质材料,其特征在于,含有如下晶体结构作为主体,所述晶体结构具有由M1元素和S元素构成的八面体O、由M2a元素和S元素构成的四面体T1、以及由M2b元素和S元素构成的四面体T2,所述四面体T1和所述八面体O共有棱,所述四面体T2和所述八面体O共有顶点,
所述M1至少含有Li,
所述M2a和所述M2b各自独立地为选自P、Sb、Si、Ge、Sn、B、Al、Ga、In、Ti、Zr、V、Nb中的至少一种,
所述M2a和所述M2b中的至少一方含有P,
所述M2a和所述M2b中的至少一方含有Si。
8.根据权利要求7所述的硫化物固体电解质材料,其特征在于,所述M2a和所述M2b中的至少一方含有除P和Si以外的其他元素。
9.根据权利要求7或8所述的硫化物固体电解质材料,其特征在于,Si相对于除P以外的所述M2a和所述M2b的摩尔分数为30%以上。
10.根据权利要求7~9中任一项所述的硫化物固体电解质材料,其特征在于,在所述晶体结构中,晶格常数的a轴长为以下。
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