[发明专利]用于筒的过滤单元有效

专利信息
申请号: 201380006445.4 申请日: 2013-01-23
公开(公告)号: CN104066514B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: J·H·M·雷正;T·H·埃弗斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 刘瑜,王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 过滤 单元
【权利要求书】:

1.一种用于过滤流体的过滤单元,包括:

a)至少一个箔(FT、FB、FI),其对所述流体不可渗透且包括至少一个孔(A、A');

b)过滤材料,其对所述流体的至少一部分可渗透,所述过滤材料被集成到所述箔(FT、FB、FI)的所述孔中,

其中,所述过滤材料包括用于安装所述过滤材料的子部分,并且

其中,在所述子部分中的细孔包括填充材料以防止所述子部分中的流体损失。

2.一种包括刚性载体和根据权利要求1所述的过滤单元的筒,其中,所述刚性载体和所述过滤单元是彼此附着的。

3.一种利用过滤材料来制造过滤单元的方法,所述方法包括如下步骤:

-将两个箔(FT、FB)彼此附着,使得所述两个箔包围在它们之间的所述过滤材料;

-在每个箔(FT、FB)中在所述过滤材料的位置处提供至少一个孔(A);

-在所述过滤材料中提供用于安装所述过滤材料的子部分;以及

-在所述子部分的细孔中设置填充材料以防止所述子部分中的流体损失。

4.一种用于根据权利要求1所述的过滤单元(1200、1300)的过滤材料(1201、1201'、1301),包括:

-具有细孔的基质材料(1201a、1201a'、1301a、1301c),所述流体能够通过所述细孔;

-填充材料(1201b、1201b'、1301b),其被设置于所述基质材料(1201a、1201a'、1301a)的子部分中的所述细孔中。

5.根据权利要求1所述的过滤单元,其特征在于,所述至少一个箔(FT、FB、FI)包括顶部箔(FT)、底部箔(FB)和嵌入顶部箔(FT)和底部箔(FB)之间的中间箔(FI),并且所述过滤材料被布置于所述中间箔(FI)的所述孔(A')中。

6.根据权利要求5所述的过滤单元(400),其中,所述过滤材料(1201)的周边区或边缘区域在所述中间箔(FI)的水平处被安装/夹紧于所述顶部箔(FT)和所述底部箔(FB)之间,并且其中,所述边缘区域或周边区的细孔填充有所述填充材料(1201b、1201b'、1301b)。

7.根据权利要求1所述的过滤单元(600、700、800),其特征在于,所述过滤单元的至少一个箔(606、702、705、706、802、805)包括至少一个腔(654、655、711、754、755、811)。

8.根据权利要求1所述的过滤单元,其中,所述过滤材料具有拱顶形。

9.根据权利要求1所述的过滤单元,包括保持元件,所述保持元件用于沿一个方向压住所述过滤材料,所述保持元件是额外的箔。

10.根据权利要求1所述的过滤单元(1100),其中,所述过滤材料(1101)在使用期间能触及的一侧被设计成保持给定最小量和最大量之间的量的样本(B),此时所述量覆盖整个过滤材料(1101)且仅由附着力保持。

11.根据权利要求1所述的过滤单元(400),其中,所述过滤材料(401)被具有至少两个孔(A1、A2)的箔(405)覆盖,所述至少两个孔提供到所述过滤材料(401)的通路。

12.根据权利要求2所述的筒(190、590、890、1090),其中,所述载体(150、550、850、1150)包括用于容纳流体的至少一个腔(153、154、155、553、554、555、855),所述腔连接到所述过滤材料(101、601、801、1101)。

13.根据权利要求12所述的筒(590),其特征在于,所述载体(550)的至少一个腔(553、554、555)被相关联的过滤单元(500)的箔(503)覆盖。

14.根据权利要求2所述的筒(790、890、990、1090),其中,预处理流体系统位于所述过滤材料(701、801、901、1001)的第一侧上,并且后处理流体系统位于所述过滤材料的相对侧上,并且其中,所述预处理流体系统包括入口(710、810、910、1010)和/或处理室(712、812、912、913、1012、1013),其中,在所述入口处能够引入流体,所述处理室用于处理未通过所述过滤材料(701、801、901、1001)的流体。

15.根据权利要求2所述的筒(290、890、1090),包括处理室(255、855、1055a、1055b、1055c),所述处理室与所述过滤材料(201、801、1001)相邻,并且在所述处理室中能够处理流体。

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