[实用新型]一种铜铟镓硒薄膜太阳电池有效
申请号: | 201320895171.6 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN203721739U | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 申绪男;赵岳;王赫;杨亦桐;邓朝文;赵彦民;乔在祥 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0236 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳电池 | ||
技术领域
本实用新型属于铜铟镓硒薄膜太阳电池制作技术领域,特别是涉及一种铜铟镓硒薄膜太阳电池。
背景技术
21世纪人类面临的最大课题是不仅有能源问题,还有环境问题,利用太阳能来解决全球性的能源和环境问题越来越受到人们的重视,各种太阳电池应运而生。在能源日益短缺与过度使用矿石燃料而造成全球暖化的危机中,太阳能光伏发电已成为各国优先考虑发展的洁净能源。铜铟镓硒(铜铟镓硒)化合物太阳电池因转换效率高、弱光发电性能好、稳定性好、无衰减等优点而成为最有希望的光伏器件之一。然而,由于电子产品需求量的不断加大,对于各种稀有金属的需求量也与日俱增,稀有金属的价格日益上涨。在此大背景下,提高稀有金属的利用率对于保护稀有金属资源和降低电池生产成本来说都有巨大的意义。
铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳电池中,吸收层是整个电池的核心部分,大部分光生载流子的输运和收集工作是由吸收层(p型铜铟镓硒层)所完成的。为了保证电池对光的充分吸收,大多将铜铟镓硒吸收层的厚度制成1.5至2.5μm;由于铜铟镓硒均属于贵重的稀有金属资源,造成铜铟镓硒薄膜太阳电池的制作成本难以下降。
发明内容
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种在不损失太阳光的利用率的基础上,较少铜铟镓硒材料的使用,大幅降低电池制作成本的一种铜铟镓硒薄膜太阳电池。
本实用新型包括如下技术方案:
一种铜铟镓硒薄膜太阳电池,自下至上依次包括:衬底、背电极、铜铟镓硒吸收层、缓冲层、i-ZnO层、透明窗口层、减反射层和栅线电极,其特点是:所述衬底位于背电极一面的均方根粗糙度为80-120nm、所述背电极的两 面均方根粗糙度均与位于衬底一面的背电极均方根粗糙度相同、所述铜铟镓硒吸收层与背电极接触的面与背电极面的均方根粗糙度相同、铜铟镓硒吸收层另一面均方根粗糙度为20nm以下,铜铟镓硒吸收层最厚部分的厚度为≤1μm。
本实用新型还可以采用如下技术措施:
所述背电极为双层Mo结构,背电极最厚部分的厚度为600nm。
所述缓冲层为50nm厚的CdS层;所述i-ZnO层的厚度为50nm;所述透明窗口层为350nm厚的ZnO:Al层;所述减反射层为100nm厚的MgF2层;所述栅线电极为2μm厚的Ni-Al。
本实用新型具有的优点和积极效果:
本实用新型通过在粗糙面背电极上共蒸发形成的1μm厚铜铟镓硒薄膜,经腐蚀,形成表面均方根粗糙度为20nm以下的陷光结构的铜铟镓硒吸收层,增加了光在吸收层中所经过的有效光程,在不损失太阳光的利用率的基础上,大幅较少了稀有金属资源的利用,既实现了对太阳光的有效利用,又大幅降低电池的生产成本,具有极其广泛的应用前景。
附图说明
图1是本实用新型铜铟镓硒薄膜太阳电池结构示意图。
图中,1-衬底,2-背电极,3-铜铟镓硒吸收层,4-缓冲层,5-i-ZnO层,6-透明窗口层,7-减反射层,8-栅线电极。
具体实施方式
为能进一步公开本实用新型的发明内容、特点及功效,特例举以下实例并结合附图进行详细说明如下:
一种铜铟镓硒薄膜太阳电池,自下至上依次包括:衬底、背电极、铜铟镓硒吸收层、缓冲层、i-ZnO层、透明窗口层、减反射层和栅线电极,其特点是:所述衬底位于背电极一面的均方根粗糙度为80-120nm、所述背电极的两面均方根粗糙度均与位于衬底一面的背电极均方根粗糙度相同、所述铜铟镓硒吸收层与背电极接触的面与背电极面的均方根粗糙度相同、铜铟镓硒吸收层另一面均方根粗糙度为20nm以下,铜铟镓硒吸收层最厚部分的厚度为≤1μm。
所述背电极为双层Mo结构,背电极最厚部分的厚度为600nm。
所述缓冲层为50nm厚的CdS层;所述i-ZnO层的厚度为50nm;所述透明窗口层为350nm厚的ZnO:Al层;所述减反射层为100nm厚的MgF2层;所述栅线电极为2μm厚的Ni-Al。
本实用新型的一种制作过程:
步骤1.制作一面为粗糙面的衬底
采用等离子体刻蚀机,设置功率为0.5kW,压强为4×10-2pa,通过Ar2对钛箔一面进行均方根粗糙度为100nm的等离子体刻蚀,作为一面为粗糙面的衬底1;
步骤2.在衬底的粗糙面上制作背电极
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的