[实用新型]背光模组与印刷在玻璃上的柔性电路板的贴合装置有效

专利信息
申请号: 201320895154.2 申请日: 2013-12-31
公开(公告)号: CN203775542U 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 阴紫腾;孙孝文 申请(专利权)人: 东莞市奥思睿德世浦电子科技有限公司
主分类号: H05K3/34 分类号: H05K3/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 背光 模组 印刷 玻璃 柔性 电路板 贴合 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及全自动背光模组组装焊接设备技术领域,具体为一种背光模组与印刷在玻璃上的柔性电路板的贴合装置。

背景技术

传统背光模组(Backlight Unit,简称BLU)与印刷在玻璃上的柔性电路板(Flexible printed circuits board On Glass,简称FOG)的组装焊接采用人工完成,人工完成上述组装焊接工作需要完成的工序较多,如撕背光模组保护膜、撕开柔性电路板的保护膜、背光模组与柔性电路板对位贴合、背光模组与柔性电路板焊接,人工劳动强度大,工作速度慢,效率低以及贴合偏位造成焊接困难等现象,同时手工撕膜在组装过程中还容易造成背光模组和柔性电路板的二次脏污。

发明内容

本实用新型所解决的技术问题在于提供一种背光模组与印刷在玻璃上的柔性电路板的贴合装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:

一种背光模组与印刷在玻璃上的柔性电路板的贴合装置,包括与背光模组上料装置对应设置的贴合下台面和与FOG上料装置对应设置的贴合上台面,所述贴合下台面设有吸住背光模组的真空吸板,贴合下台面上还设有背光模组位置校正装置,所述贴合上台面上设有吸住FOG的真空吸板,贴合上台面还设有FOG位置校正装置,所述贴合下台面通过第一驱动装置由接料位置移至贴合位置,所述贴合上台面通过贴片头与第二驱动装置相连,贴片头上设有用于升降贴合上台面的第三驱动机构。

优选的,所述第一驱动机构、第二驱动机构为伺服电机驱动的滚珠丝杠,所述第三驱动机构为伺服电机驱动的滚珠丝杆。

在本实用新型中,当贴合下台面处于接料位置时,背光模组上料机构将背光模组放在贴合下台面上,贴合下台面真空吸盘启动,吸住背光模组,背光模组位置校正装置动作,对背光模组位置进行校正,校正同时贴合下台面移动到贴合位置等待贴合;在背光模组上料同时,贴合上台面利用真空从FOG上料机构吸住FOG,并左移到待贴合位置,FOG位置校正装置对FOG位置进行校正,校正完成后,贴合上台面下降到贴合面,将FOG放入背光模组的凹槽内,贴合上台面上升,贴合下台面退回到接料位置,背光模组与FOG的贴合完成。

本实用新型的有益效果如下:结构简单,操作智能化,无需人工进行背光模组与FOG进行贴合,保证贴合速度、精度以及稳定性,避免人工操作带来的二次脏污,工作速度快,生产效率高。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的实现技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本实用新型。

如图1所示,背光模组与FOG贴合装置,包括与背光模组上料装置对应设置的贴合下台面1和与FOG上料装置对应设置的贴合上台面6,所述贴合下台面1设有吸住背光模组2的真空吸板,贴合下台面1上还设有背光模组位置校正装置7,所述贴合上台面6上设有吸住FOG5的真空吸板,贴合上台面6还设有FOG位置校正装置4,所述贴合下台面1通过第一驱动装置由接料位置移至贴合位置,所述贴合上台面6通过贴片头3与第二驱动装置相连,贴片头上3设有用于升降贴合上台面6的第三驱动机构。

优选的,所述第一驱动机构、第二驱动机构为伺服电机驱动的滚珠丝杠,所述第三驱动机构为伺服电机驱动的滚珠丝杆。

本实用新型的工作原理如下:当贴合下台面1处于接料位置时,背光模组上料机构将背光模组2放在贴合下台面1上,贴合下台面1真空吸盘启动,吸住背光模组2,背光模组位置校正装置7动作,对背光模组位置进行校正,校正同时贴合下台面1移动到贴合位置等待贴合;在背光模组上料同时,贴合上台面6利用真空从FOG上料机构吸住FOG,并左移到待贴合位置,FOG位置校正装置对FOG位置进行校正,校正完成后,贴合上台面6下降到贴合面,将FOG放入背光模组的凹槽内,贴合上台面6上升,贴合下台面1退回到接料位置,背光模组与FOG的贴合完成。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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