[实用新型]一种蚀刻摇摆轴的密封结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及蚀刻显影设备中密封结构的技术领域，尤其涉及一种蚀刻摇摆轴的密封结构。

背景技术

蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

常规的印制电路板（PCB）、不锈钢的蚀刻显影设备中，参照图1和图2，摇摆轴23＇与机壳1＇的配合位装设有油封6＇的密封套组3＇，即第一密封套31＇和第二密封套32＇，当设备运行一段时间后，由于摇摆轴23＇的不断旋转摩擦，两处密封套的油封会被磨损破坏而导致密封失效；机壳1＇内部的蚀刻药水与基板发生化学反应时会导致药水升温，进而部分蚀刻药水会蒸发成药水蒸汽，这些药水蒸汽会透过密封失效的密封套组3＇向外溢出，由于蚀刻药水本身的特性因素，当药水蒸汽与室外空气接触后容易结晶，造成第二密封套32＇外面出现结晶，而该结晶具有一定的硬度，当设备继续运行时，摇摆轴23＇不断地与结晶摩擦，这样，容易造成摇摆轴23＇等结构的磨损，进而严重影响了设备的性能，以及使用寿命，同时，药水蒸汽的溢出会导致药水浪费，从而增加了生产成本，另外，第二密封套32＇外面出现结晶还影响了设备整体外观的整洁度。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种蚀刻摇摆轴的密封结构，旨在解决现有技术中，常规的蚀刻摇摆轴的密封结构所存在的如下缺陷：

容易因密封失效导致设备内部的药水蒸汽外溢而结晶，进而导致设备磨损，药水浪费，不仅影响了设备性能和使用寿命，还影响了设备的整洁度。

本实用新型是这样实现的，一种蚀刻摇摆轴的密封结构，用于蚀刻机或者显影机，包括密闭的机壳，以及由所述机壳的外部伸入其内部的摇摆轴，于所述摇摆轴与所述机壳的配合位、且于所述摇摆轴上密封套设有密封套组，于所述机壳内、且于所述摇摆轴上套设有套管，所述套管的上端插入所述密封套组中，且所述套管的下端与所述摇摆轴密封。

进一步地，所述摇摆轴上套设有轴套，并通过所述轴套与所述机壳隔离，且所述轴套的边缘与所述机壳密封。

优选地，所述密封套组包括分别设置于所述机壳内、外的第一密封套和第二密封套，且所述第一密封套和第二密封套分别置于所述轴套的下端和上端。

优选地，所述第一密封套和所述第二密封套分别与所述摇摆轴通过油封形成密封。

优选地，于所述机壳内、且于所述摇摆轴上密封套设有第三密封套，所述套管的下端插设于所述第三密封套内，且所述套管的上端插入所述第一密封套内。

进一步地，所述第三密封套与所述摇摆轴通过油封形成密封。

更进一步地，所述第一密封套、所述轴套以及所述第二密封套通过紧固件形成紧固连接。

优选地，所述套管的内壁与所述摇摆轴的外壁之间形成有间隙。

与现有技术相比，本实用新型提出的蚀刻摇摆轴的密封结构，通过在摇摆轴与机壳的配合位设置密封套组，并在摇摆轴位于机壳内的部分段上套设与其密封的套管，从而形成了气体缓冲区，避免了因密封失效导致药水蒸汽外溢产生结晶的现象，不仅提高了设备性能，延长了使用寿命，还节约了药水，降低了成本，提高了整洁度。

附图说明

图1为现有技术中实施例提供的蚀刻摇摆轴的密封结构在应用状态下的局部结构剖面示意图；

图2为图1中A部分的放大示意图；

图3为本实用新型实施例提供的蚀刻摇摆轴的密封结构在应用状态下的局部结构剖面示意图；

图4为图3中B部分的放大示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

以下结合具体实施例对本实用新型的实现进行详细的描述。

如图3、图4所示，为本实用新型提供的一个较佳实施例。