[实用新型]一种超临界二氧化碳染色釜有效

专利信息
申请号: 201320882130.3 申请日: 2013-12-31
公开(公告)号: CN203614739U 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 祝勇仁;张炜 申请(专利权)人: 浙江机电职业技术学院
主分类号: F16J15/10 分类号: F16J15/10;D06B23/00
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周涌贺
地址: 310053 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 临界 二氧化碳 染色
【权利要求书】:

1.一种超临界二氧化碳染色釜,包括染色釜体(1),染色釜体(1)上端设有开口(2),开口(2)上设有端盖(3),端盖(3)中设有伸入染色釜体(1)内的测温管(4),染色釜体(1)内设有固定测温管(4)的定位套(5),端盖(3)上设有把手(6),其特征是:所述端盖(3)上设有与开口(2)外端面呈密封配合的内密封面(3-1)、与开口(2)内壁呈密封配合的外密封面(3-2),所述开口(2)外端面开有凹槽(2-1),凹槽(2-1)内设有环形圈(7),所述端盖(3)的外密封面(3-2)上开有贯穿端盖(3)下端的安装槽(3-3),安装槽(3-3)上安装有V型密封圈组(8),在端盖(3)的下端面上固定有内板(9),内板(9)的外沿限位顶压在V型密封圈组(8)下端面的内部分,所述开口(2)的内壁设有限位台阶(2-2),限位台阶(2-2)限位顶压在V型密封圈组(8)下端面的外部分,所述限位台阶(2-2)的内壁与内板(9)外壁之间设有间隙(10);所述V型密封圈组(8)包括上压环(8-1)和下压环(8-2),上压环(8-1)和下压环(8-2)之间设有一组呈倒V形结构的密封圈(8-3),下压环(8-2)的上表面为倒V形凸起并顶压在密封圈(8-3),密封圈(8-3)下表面的中间开有展开槽(8-4)。

2.根据权利要求1所述的超临界二氧化碳染色釜,其特征是:所述染色釜体(1)与端盖(3)之间设有卡箍(11),卡箍(11)外套有一组锁环(12),锁环(12)与卡箍(11)之间呈面接触。

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