[实用新型]一种超临界流体分离釜结构有效

专利信息
申请号: 201320882095.5 申请日: 2013-12-31
公开(公告)号: CN203620302U 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 祝勇仁 申请(专利权)人: 浙江机电职业技术学院
主分类号: B01D19/00 分类号: B01D19/00
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周涌贺
地址: 310053 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 临界 流体 分离 结构
【权利要求书】:

1.一种超临界流体分离釜结构,包括釜体(1),釜体(1)上端设有开口(2),其特征是:所述釜体(1)上部侧壁开有流体进口(3),流体进口(3)连接进口管(4),进口管(4)向下弯曲且内部出口朝向釜体(1)内壁,流体进口(3)的相对位置开有位于釜体(1)上部侧壁的流体出口(5),釜体(1)的底部设有挡板(6),挡板(6)的下方设有贯通釜体(1)的回收漏斗(7),所述釜体(1)的外设有水夹套(8),水夹套(8)与釜体(1)间形成交换腔(9),交换腔(9)的下部设有进水管(9-1),交换腔(9)的上部设有出水管(9-2)。

2.根据权利要求1所述的超临界流体分离釜结构,其特征是:所述开口(2)内设有密封座(10),开口(2)外端设有用于压紧密封座(10)的压紧封头(11),密封座(10)内设有伸入釜体(1)内的压力表及温度计(12)。

3.根据权利要求2所述的超临界流体分离釜结构,其特征是:所述密封座(10)与压紧封头(11)之间设有挡圈(13)。

4.根据权利要求2所述的超临界流体分离釜结构,其特征是:所述密封座(10)的外侧上开有贯穿密封座(10)下端的安装槽(10-1),安装槽(10-1)上安装有V型密封圈组(14),在密封座(10)的下端面上固定有内板(15),内板(15)的外沿限位顶压在V型密封圈组(14)下端面的内部分,开口(2)的内壁设有限位台阶(2-1),限位台阶(2-1)限位顶压在V型密封圈组(14)下端面的外部分,限位台阶(2-1)的内壁与内板(15)外壁之间设有间隙(16)。

5.根据权利要求4所述的超临界流体分离釜结构,其特征是:所述V型密封圈组(14)包括上压环(14-1)和下压环(14-2),上压环(14-1)和下压环(14-2)之间设有一组呈倒V形结构的密封圈(14-3),下压环(14-1)的上表面为倒V形凸起并顶压在密封圈(14-3),密封圈(14-3)下表面的中间开有展开槽(14-4)。

6.根据权利要求1所述的超临界流体分离釜结构,其特征是:所述流体进口(3)与进口管(4)通过管接头锁母(17)固定。

7.根据权利要求1所述的超临界流体分离釜结构,其特征是:所述交换腔(9)的外设有保温层(18)。

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