[实用新型]柔性消影透明导电薄膜及触摸屏

说明书

技术领域

本发明涉及柔性电容型触摸屏及其中的导电薄膜。 

背景技术

现有的电容型触摸屏，包括依次层叠的保护层、第一导电薄膜、第二导电薄膜，相连两层之间通过光学胶粘接。其第一导电薄膜和第二导电薄膜均包括层叠的柔性透明薄膜基材和ITO透明导电薄膜层。生产工艺中使用激光蚀刻ITO透明导电薄膜层形成电路图案后，蚀刻条纹肉眼可见，严重时影响到触摸屏显示效果。 

发明内容

本发明的目的是提供一种能够提高全光线透光率，同时对电路蚀刻图案有着很好的消影作用的柔性消影透明导电薄膜。 

本发明的柔性消影透明导电薄膜，包括依次层叠的柔性透明薄膜基材、ZrO₂薄膜层(9)、ITO透明导电薄膜层(12)。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，在ZrO₂薄膜层(9)与ITO透明导电薄膜层(12)之间还依次层叠SiO₂薄膜层(10)、SiOx(0<x<2)薄膜层(11)。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，柔性透明薄膜基材为PET薄膜基材。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，柔性透明薄膜基材厚度为5μm-200μm。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，ZrO₂薄膜层(9)厚度为0.5nm-100nm。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，ITO透明导电薄膜层(12)厚度为0.5nm-100nm。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，在柔性透明薄膜基材与ZrO₂薄膜层(9)之间有第一树脂层(8)；在柔性透明薄膜基材另一表面上有第二树脂层(6)。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，柔性透明薄膜基材包括通过粘胶剂粘合的两层薄膜基材(7、13)。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，SiO₂薄膜层(10)厚度为0.5nm-100nm。 

所述的柔性消影透明导电薄膜，SiOx(0<x<2)薄膜层(11)厚度为0.5nm-100nm。 

本发明同时还提供了一种全光线透光率更高，色差b*更小，能够提高屏幕显示两度与清晰度，具有节能效果的触摸屏。 

本发明的触摸屏，包括依次层叠的保护层、第一导电薄膜、第二导电薄膜，相连两层之间通过光学胶粘接，第一导电薄膜和第二导电薄膜为上述的柔性消影透明导电薄膜。 

上述的触摸屏，保护层与第一导电薄膜中的柔性透明薄膜基材通过光学胶粘合，第一导电薄膜中的ITO透明导电薄膜层与第二导电薄膜中的柔性透明薄膜基材或者柔性透明薄膜基材通过光学胶粘合； 

上述的触摸屏，保护层与第一导电薄膜中的ITO透明导电薄膜层通过光学胶粘合，第一导电薄膜中的柔性透明薄膜基材与第二导电薄膜中的柔性透明薄膜基材或者柔性透明薄膜基材通过光学胶粘合。 

本发明的有益效果：1、由于使用了纳米级ZrO₂、SiO₂及其非完全氧化物薄膜层组合,更加有利于增宽透过光谱的范围,全光线透过率增加。本技术相对没有ZrO₂、SiO₂及其非完全氧化物薄膜层组合的柔性消影透明导电薄膜及触摸屏而言，其电阻值相同的情况下，全光线透光率更高，色差b*更小，这种光学薄膜结构，能够节能，提高屏幕显示亮度和清晰度。 

2、同时由于使用了纳米级ZrO₂、SiO₂及其非完全氧化物薄膜层组合，在提高全光线透光率、减少了透光光线反射的同时，有效阻隔或降低了激光蚀刻时激光束能量对柔性透明薄膜基材的影响。相对没有这种多层薄膜结构的柔性消影透明导电薄膜和触摸屏,本技术的柔性消影透明导电薄膜和触摸屏具有相对高的全光线透过率，同时降低了无电极电路的全光线透过率与蚀刻后有电极电路(ITO透明导电薄膜层)的全光线透过率之间的差值(△Tt)，也降低了无电极电路的光线反射率与蚀刻后有电极电路(ITO透明导电薄膜层)的光线反射率之间的差值(△Rf)。所以，本发明能够消除电路纹路影响，即提高在低阻值下的全光线透光率，同时对电路激光蚀刻图案有着很好的消影作用(无电路图案蚀刻纹路，或电路图案纹路浅淡，肉眼难以分辨)，解决或消除激光蚀刻产生的色差及透光率的影响。 

所以本发明提供一种柔性可卷曲、厚度薄、重量轻、表面电阻小、高透光、低色差的电容型触摸屏用柔性消影透明导电薄膜和触摸屏。 

附图说明

图1是实施例1的柔性消影透明导电薄膜示意图。