[实用新型]一种磁场测量分析装置

说明书

技术领域

本发明涉及到一种磁场测量分析装置,尤其涉及到一种通过霍尔探头的磁场测量分析装置。

背景技术

目前镀膜玻璃采用的磁控溅射技术，磁控溅射已发展为工业镀膜生产中的技术之一，在批量镀膜生产中特别关注靶材利用率、膜层均匀性、沉积速率及溅射过程稳定性等方面的问题，在磁控溅射镀膜设备中，磁钢只能单独测量，磁钢安装好后，没法有效的测量磁场的均匀性，因此会使等离子体产生局部収缩效应。

镀膜玻璃的膜厚均匀性是镀膜玻璃的非常重要的一个性能指标，它会直接影响到产品的外观质量和使用效果。国家标准要求低辐射玻璃光学性能允许最大偏差为1.5%,当均匀性超过一定范围时，肉眼即可从玻璃面感觉到色差。当前的建筑幕墙玻璃都是采用大面积镀膜玻璃，在此控溅射中，约束金属离子溅射区域磁场的均匀性直接影响着所镀膜层的均匀性，因此保证磁场均匀性问题一直是工艺调试中十分重要而又令人头疼的问题；目前国内很多生产设备的厂家只能利用量具测量单个磁铁的磁场强度，装配好后，不能很好的测量磁场的均匀性，进行调整和优化。

发明内容

为了解决现有技术中磁场强度分布不均匀,难以测量的缺陷,本发明提供一种磁场测量分析装置。

针对上述的技术问题，达到上述的技术目的，本发明提供一种磁场测量分析装置，其采用的技术方案为一种磁场测量分析装置，其包括机架装置、安装在机架装置上端的横向移动装置，安装在机架装置上端且与横向移动装置“十”字交叉的纵向移动装置，可随横向移动装置左右移动和纵向移动装置上下移动的霍尔探针，在横向移动装置上设有横向刻度尺，在纵向移动装置上设有纵向刻度尺。

本发明的优先实施方案是，在机架装置的上端、霍尔探针下方位设有被测部件，所述被测部件通过定位装置固定。

本发明的优先实施方案是，所述横向移动装置包括第一手轮、第一齿轮齿条，横向直线导轨，所述霍尔探针可通过横向直线导轨内导轨进行左、右移动，所述第一手轮转动，带动第一齿轮齿条运动，进一步带动霍尔探针在横向直线导轨内左、右移动。

本发明的优先实施方案是，所述横向刻度尺安装在横向直线导轨的上，通过横向刻度尺观测到霍尔探针在横向直线导轨的移动距离。

本发明的优先实施方案是，所述纵向移动装置包括第二手轮、第二齿轮齿条，纵向直线导轨，所述霍尔探针测量机构通过其上的滑块安装在纵向直线导轨内，所述第二手轮转动，带动第二齿轮齿条运动，进一步带动霍尔探针测量机构在纵向直线导轨内做上、下移动。

本发明的优先实施方案是，所述霍尔探针测量机构包括第一手轮、第一齿轮齿条、横向直线导轨、霍尔探针、横向刻度尺。

本发明的优先实施方案是，在机架装置的顶端安装有一个高斯仪，所属高斯仪于霍尔探针测量装置相连，通过高斯仪的数字现实屏，显示采集各点的磁场强度。

本发明的优先实施方案是，所属机架装置的底端移动脚轮，所属移动脚轮的下端还设有支撑板。

本发明的一种优先实施方案是， 在霍尔探针的上端还设有上下移动装置，通过上下移动装置可微调霍尔探针与被测部件上下之间的距离。

本发明的技术效果是，通过高斯仪上的霍尔探头的霍尔效应对磁铁表面分不同需要进行定点法进行磁场测量，采集不同点的磁场强度，并通过相应的软件绘制出磁场的曲线图，根据测量获得的磁钢排布的磁场均匀性，可用于磁钢的安装及调整，提高了磁场排布的均匀性。本发明具有测量过程方面快捷、测量结果精确、稳定可靠等特点。

附图说明

附图1为本发明的结构示意图。

1-机架装置；2-横向移动装置；3-纵向移动装置；4-横向刻度尺；5-纵向刻度尺；6-定位装置；7-移动脚轮；8-支撑板；9-上下移动装置；10-被测部件；11-第二手轮；12-第一手轮；13-霍尔探针；14-霍尔探针测量机构；15-第一齿轮；16-第二齿轮；17-高斯仪；19-横向直线导轨；20-纵向直线导轨；21-位移感应器；100-霍尔探针测量装置。

具体实施方式

为了更清楚的叙述本发明的技术方案,下面结合附图对本发明做进一步的说明。

参照图1所示，一种磁场测量分析装置包括机架装置1，设置在机架装置1上端的纵向移动装置3和横向移动装置2，其中，纵向移动装置3与横向移动装置2成“十”字交叉型。