[实用新型]一种新型低辐射玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种新型低辐射玻璃。

背景技术

低辐射玻璃是指对红外辐射具有高反射率，对可见光具有良好透射率的平板镀膜玻璃。低辐射玻璃具有良好的透光、保温、隔热性能，广泛应用于窗户、炉门、冷藏柜门等地方。

现有的低辐射玻璃其强度不够很容易遭受损坏，影响正常的使用，不能满足使用者的需求，故此，现有的低辐射玻璃有待于进步完善。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，生产成本相对较低的新型低辐射玻璃。

为了达到上述目的，本实用新型采用以下方案：

一种新型低辐射玻璃,其特征在于：包括玻璃基板，在所述玻璃基板上磁控溅射有TiO₂介质层，在所述TiO₂介质层上磁控溅射有CrNx阻挡层，在所述CrNx阻挡层上磁控溅射有AZO平整层，在所述AZO平整层上磁控溅射有Ag功能层，在所述Ag功能层上磁控溅射有(NiCr)xOy层，在所述(NiCr)xOy层上磁控溅射有SnO₂保护层，在所述SnO₂保护层上磁控溅射有C层。

如上所述的一种新型低辐射玻璃，其特征在于所述TiO₂介质层的厚度为10～30nm。

如上所述的一种新型低辐射玻璃，其特征在于所述CrNx阻挡层的厚度为0.5～2nm。

如上所述的一种新型低辐射玻璃，其特征在于所述AZO平整层的厚度为5～20nm。

如上所述的一种新型低辐射玻璃，其特征在于所述Ag功能层的厚度为7～10nm。

如上所述的一种新型低辐射玻璃，其特征在于所述(NiCr)xOy层的厚度为0.5～5nm。

如上所述的一种新型低辐射玻璃，其特征在于所述SnO₂保护层的厚度为20～50nm。

如上所述的一种新型低辐射玻璃，其特征在于所述C层的厚度为10～20nm。

综上所述，本实用新型的有益效果：

本实用新型结构简单，生产成本相对较低。本实用新型中(NiCr)_xO_y能提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

本实用新型中C层代替PE保护膜或隔离粉，防止镀膜玻璃在处理过程中被划伤；此膜层在钢化过程中会被完全燃烧，从而不影响镀膜玻璃的光学性能。

本实用新型产品特点：透过率达83%，辐射率小于0.08，膜层不易被划伤。

附图说明

图1为本实用新型的示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本实用新型做进一步描述：

本实用新型一种新型低辐射玻璃,包括玻璃基板1，在所述玻璃基板1上磁控溅射有TiO₂介质层2，在所述TiO₂介质层2上磁控溅射有CrNx阻挡层3，在所述CrNx阻挡层3上磁控溅射有AZO平整层4，在所述AZO平整层4上磁控溅射有Ag功能层5，在所述Ag功能层5上磁控溅射有(NiCr)xOy层6，在所述(NiCr)xOy层6上磁控溅射有SnO₂保护层7，在所述SnO₂保护层7上磁控溅射有C层8。

本实用新型所述TiO₂介质层的厚度为10～30nm。所述CrNx阻挡层的厚度为0.5～2nm。所述AZO平整层的厚度为5～20nm。所述Ag功能层的厚度为7～10nm。所述(NiCr)xOy层的厚度为0.5～5nm。所述SnO₂保护层的厚度为20～50nm。所述C层的厚度为10～20nm。

本实用新型低辐射玻璃,可以通过以下制备方法制备：

A、采用氩气作为反应气体，交流中频电源溅射陶瓷钛靶，在玻璃基板上磁控溅射TiO₂介质层；所述氩气的气体流量1000sccm，，溅射功率为30KW；

B、采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射铬平面靶，在步骤A中TiO₂介质层上磁控溅射CrNx阻挡层；，氩气与氮气的体积流量比为1：2，即氩气与氮气的体积流量比为500sccm：1000sccm；CrNx阻挡层有效防止Ag层被氧化；

C、采用氩气作为反应气体，交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶，在步骤B中的TiO₂介质层上磁控溅射AZO平整层；AZO平整层为Ag层作铺垫，降低辐射率；