[实用新型]一种连续脱羧反应装置

权利要求书

1.一种脱羧反应装置，它包括：

（a）一个圆筒型脱羧反应室（10），该圆筒型脱羧反应室（10）包括反应室壁（3）；

（b）与该圆筒型脱羧反应室（10）同轴安装的刮板筒（9），该刮板筒（9）包括上底环（21）、下底环（41）、在所述上底环（21）和下底环（41）之间与所述反应室壁（3）平行的多根刮板（31），所述上底环（21）和下底环（41）具有相同的直径，所述多根刮条中的一部分刮条与所述反应器壁之间的间距小于1cm，而另一部分刮条与所述反应器壁之间的间距为1-5cm；

（c）安装在所述圆筒型脱羧反应室（10）下方基本水平放置的固体干燥室（4），该固体干燥室（4）内部装有推动物料向前移动的螺旋状机械装置（5），外部装有加热装置（6）。

2.如权利要求1所述的脱羧反应装置，其特征在于所述间距小于1cm的所述一部分刮条为平板条；所述间距为1-5cm的另一部分刮条为包覆可自由旋转滚筒的圆柱条。

3.如权利要求2所述的脱羧反应装置，其特征在于所述平板条与所述反应器壁之间的间距小于0.5cm；所述包覆可自由旋转滚筒的圆柱条所述反应器壁之间的间距为1.2-4cm。

4.如权利要求3所述的脱羧反应装置，其特征在于所述平板条与所述反应器壁之间的间距小于0.2cm；所述包覆可自由旋转滚筒的圆柱条所述反应器壁之间的间距为1.5-3cm。

5.如权利要求1-4中任一项所述的脱羧反应装置，其特征在于所述多根刮条中的一部分刮条与所述另一部分刮条以相同的间距间隔放置。

6.如权利要求1-4中任一项所述的脱羧反应装置，其特征在于所述刮板的长度是脱羧反应室（10）高度的40-90％。

7.如权利要求6所述的脱羧反应装置，其特征在于所述刮板的长度是脱羧反应室（10）高度的45-85％。

8.如权利要求7所述的脱羧反应装置，其特征在于所述刮板的长度是脱羧反应室（10）高度的50-80％。

9.如权利要求1所述的脱羧反应装置，其特征在于所述螺旋状机械装置（5）由电机(1)驱动。

10.如权利要求1所述的脱羧反应装置，其特征在于在所述固体干燥室4下方它还包括固体收集筒(7)，该固体收集筒（7）经由球阀（8）与固体干燥室（4）相连，以便收集最终干燥的固体。