[实用新型]一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置

权利要求书

1.一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，包括下盖板、下模板、中模板、上模板、上盖板、陶瓷管、磁流变液和线圈绕组，装配顺序为将下盖板置于流体抛光机的底座上，所述下盖板下面带有下盖凸台，所述下盖凸台与流体抛光机底座密封对接；在所述下盖板上面装配下模板，所述下模板下面带有的凸台与下盖板上的凹台匹配密封对接；在所述下模板上面装配中模板，所述中模板均匀满布有中模磁料孔，中模磁料孔中装配待抛光的陶瓷管件，每个中模磁料孔可装配多个陶瓷管，在所述中模板上装配上模板，在所述上模板上装配上盖板，上盖板上带有的凸台与流体抛光机顶座密封对接；所述下盖板与上盖板设置有下盖板孔和上盖板孔，均与流体抛光机相通；所述中模板下部带有的凸台与下模板上的凹台匹配密封对接；所述中模板上部带有的凸台与上模板上的凹台匹配密封对接。 

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，所述的中模板圆周外侧设置有夹层结构，所述的夹层内设置有线圈绕组，所述的线圈绕组通过绕组引线与外部控制器连接。 

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，所述的下模板上设置有二个定位孔，所述的二个定位孔孔径不同，所述中模板上部与下部左右各分别设置有二个定位销，所述的定位孔与定位销匹配定位锁定装配，固定上模板、中模板和下模板的装配位置。 

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷管内表面磁流变抛光装置，其特征在于，所述磁流变液母液的密度为0.6-1.4g/cm³，所述磁流变液悬浮颗粒的密度为6-10g/cm³；屈服剪应力在30-80KPa；磁流变液的工作温度范围在-40℃至150℃的范围内；磁流变液的响应时间：磁流变液的响应时间为毫秒数量级，磁流变液施加外磁场后，在3-10m s内达到流变平衡。