[实用新型]一种镭射加热装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种加热装置，尤其涉及一种镭射加热装置。

背景技术

对工件进行热处理，传统采用中、高频感应的方法对工件进行加热，加热深度由线圈中电流频率决定，频率越低硬化深度越低，即“集肤效应”这也导致了工件在镀层时因为镀层厚薄不同感应不均匀，使得镀层产生不完全熔化和烧焦的后果。若试着采用镭射加热，安装时镭射源之间存在间隙，对工件进行加热时不仅存在间断加热的问题，而且需要加大热处理行程，若工件离镭射源太近工件上的螺纹容易熔化。

实用新型内容

本实用新型提供一种镭射加热装置，其能避免镭射加热工件存在的上述技术问题，从而提高了工作效率。

本实用新型是这样实现的，一种镭射加热装置，其包括基板，所述基板上安装有若干镭射源；所述基板的一侧面开设有凹槽，所述凹槽的两个相对侧壁为斜面，所述基板的另一相对侧面包括两个安装面以及连接所述两个安装面的平面，所述两个安装面分别与所述凹槽的两个斜面平行，所述两个安装面位于所述基板的相对两侧上且开设有安装所述若干镭射源的若干安装通孔，所述两个斜面为所述若干镭射源的出光面；所述若干镭射源布局成两排镭射源组，每排镭射源组中的镭射源呈直线排列，所述若干镭射源分别安装在所述两个安装面的相应安装通孔上，且两排镭射源组中的镭射源的延长线成一个预定固定角度错开排列，使所述若干镭射源的镭射焦点均匀不间断的交汇在成所述预定固定角度的直线上。

作为上述方案的进一步改进，所述预定固定角度为40度固定角度。

作为上述方案的进一步改进，所述镭射加热装置还包括用来冷却加热装置的冷却系统。

作为上述方案的进一步改进，所述两个安装面与所述平面呈台阶状。优选地，所述两个安装面相对所述平面呈对称结构。

与传统工件加热相比，本实用新型镭射加热装置能够实现对工件持续、均匀加热，从而热处理镀层后的产品镀层均匀，生产效率高。

附图说明

图1为本实用新型较佳实施方式提供的镭射加热装置的立体结构示意图。

图2为图1中镭射加热装置的俯视图。

图3为图2中镭射加热装置的右视图。

图4为图2中镭射加热装置的剖视示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请一并参阅图1、图2、图3及图4，本实用新型的镭射加热装置包括基板1，基板1上安装有若干镭射源（图未示）。

基板1的一侧面开设有凹槽2，凹槽2的两个相对侧壁为斜面3，基板1的另一相对侧面包括两个安装面4以及连接两个安装面4的平面5。两个安装面4分别与凹槽2的两个斜面3平行，两个安装面4位于基板1的相对两侧上且开设有安装所述若干镭射源的若干安装通孔6，两个斜面3为所述若干镭射源的出光面。

安装通孔6在基板1上的布局方式与所述若干镭射源的布局密切相关，所述若干镭射源的布局要求决定了安装通孔6的具体方位，接下去本实施方式对所述若干镭射源的布局要求进行详细介绍。

所述若干镭射源布局成两排镭射源组，每排镭射源组中的镭射源呈直线排列，所述若干镭射源分别安装在两个安装面4的相应安装通孔6上，且两排镭射源组中的镭射源的延长线成一个预定固定角度（在本实施方式中，为40度固定角度）错开排列，使所述若干镭射源的镭射焦点均匀不间断的交汇在成40度固定角度的直线上。因而，本实用新型的镭射加热装置能够实现对工件持续、均匀加热，从而热处理镀层后的产品镀层均匀，生产效率高。

40°的固定角度是最适合加热工件的角度，在实验中也通过了一定数量的试验证明。40°的固定角是结合基板1的尺寸确定的，可以跟随基板1的尺寸变化而适当变化。不过，一般基板1的尺寸由镀膜机上的支撑架确定的，可调动范围不大，这保证了镭射元到被加热的工件之间的距离，如果离得太近，加热时温度过高会烧坏工件的螺纹，如果距离太远，喷在工件上的粉末不能完全熔化，达不到优良的镀膜效果，这样的固定角度与基板1的尺寸所确定的距离可使镀膜达到最理想效果。在给工件镀膜时，只对工件螺纹的部分镀膜，所以加热的点主要集中在喷射粉末的地方，即双排镭射元发射的交点，工件本身是金属材料，利用自身的热传导便可把粉末均匀熔化裹附在工件上。