[实用新型]一种基于LCOS的近距离小面积监视器有效

专利信息
申请号: 201320813077.1 申请日: 2013-12-10
公开(公告)号: CN203643718U 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 周慧;朱小青 申请(专利权)人: 中山火炬开发区聚冠机械五金加工厂
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;F21V13/12
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 代理人: 邹常友
地址: 528400 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 lcos 近距离 面积 监视器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种基于LCOS的近距离小面积监视器。

背景技术

普通液晶显示器由于采用透射式工作方式,会造成照明光被吸收从而导致亮度不高,因此液晶显示器的用途受到一定的限制。

LCOS是一种全新的数码成像技术,也叫数字硅基反射液晶显示技术,它采用半导体CMOS集成电路芯片作为反射式LCD的基片,CMOS芯片上涂有薄薄的一层液晶硅,控制电路置于显示装置的后面,可以提高透光率,从而实现更大的光输出和更高的分辨率。

现有的近距离小面积监视器其结构相对比较复杂,成像效果相对较差,不能满足使用者的需求。

故此,现在有的近距离小面积监视器有待于进一步完善。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种结构简单,成像效果好的基于LCOS的近距离小面积监视器。

为了达到上述目的,本实用新型采用以下方案:

一种基于LCOS的近距离小面积监视器,其特征在于:包括有LCOS芯片,在所述LCOS芯片上设有能将光源的光线反射到LCOS芯片上的反射镜,在所述LCOS芯片上方设有能将经LCOS芯片增强的光线放大的放大透镜,在所述光源与反射镜之间设有会聚透镜,在所述会聚透镜与反射镜之间设有滤光透镜。

如上所述的一种基于LCOS的近距离小面积监视器,其特征在于所述LCOS芯片包括有CMOS硅芯片,在所述CMOS硅芯片上涂装有液晶材料层,在所述液晶材料层上设有隔离器,在所述隔离器上设有氧化铟锡层,在所述氧化铟锡层上设有玻璃基板。

如上所述的一种基于LCOS的近距离小面积监视器,其特征在于所述的滤光透镜为能过滤紫外光和红外光的双色滤光透镜。

如上所述的一种基于LCOS的近距离小面积监视器,其特征在于所述反射镜与LCOS芯片的夹角为45°。

如上所述的一种基于LCOS的近距离小面积监视器,其特征在于所述光源为三色LED。

综上所述,本实用新型相对于现有技术其有益效果是:

本实用新型产品结构简单,可用来作为摄像机取景器,数码相机取景器,头戴式送受话器、无线电通讯等其他要求便携形式显示技术的设备。

本实用新型0.9英寸尺度LCOS芯片可实现分辨率为1280*1024的SXGA显示,成像效果好。

附图说明

图1为本实用新型的示意图;

图2为本实用新型LCOS芯片的示意图。

具体实施方式

下面结合附图说明和具体实施方式对本实用新型作进一步描述:

如图1至2所示的一种基于LCOS的近距离小面积监视器,包括有LCOS芯片1,在所述LCOS芯片1上设有能将光源2的光线反射到LCOS芯片1上的反射镜3,在所述LCOS芯片1上方设有能将经LCOS芯片1增强的光线放大的放大透镜4,在所述光源2与反射镜3之间设有会聚透镜5,在所述会聚透镜5与反射镜3之间设有滤光透镜6。

如图2所示,本实用新型中所述LCOS芯片1包括有CMOS硅芯片11,在所述CMOS硅芯片11上涂装有液晶材料层12,在所述液晶材料层12上设有隔离器13,在所述隔离器13上设有氧化铟锡层14,在所述氧化铟锡层14上设有玻璃基板15。本实用新型中CMOS硅芯片11中包含了控制电路,并在表层涂有反射层,设置隔离器13可使盒厚保持均匀性,盒厚只有1微米左右。取向层氧化铟锡层14可以确保液晶分子取向一致,由于液晶须通过一部分电流,因而在液晶材料层12上部设置有一个次级透明电极,玻璃基板15能保护液晶和稳定液晶的位置。

本实用新型中所述的滤光透镜6为能过滤紫外光和红外光的双色滤光透镜。

本实用新型中反射镜3与LCOS芯片1的夹角为45°。经过滤光透镜6入射的光线可以垂直射入LCOS芯片1。

本实用新型中所述光源2为三色LED。

本实用新型中三色LED作为光源2;光源2的光线通过会聚透镜会聚,进入滤光透镜6过滤掉紫外光和红外光,然后通过成45度角设置的反射镜3LCOS芯片1上,光线经过LCOS芯片1增强后放大透镜4将高分辨率图像提供给观察者。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征以及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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