[实用新型]一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种刷子，尤其是涉及一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子。

背景技术

硅片进行有蜡抛光后，需用用刷子对抛光垫进行刷洗，以防止抛光液在抛光垫上长时间滞留而形成结晶，而结晶会对硅片产生损伤，降低抛光质量。另外，对抛光垫进行刷洗有助于其表面结构的回复，延长了抛光垫的使用寿命，也保证了硅片抛光效果的一致性。现有的刷子是设备自带的一小型刷子，每次抛光完成后会自动对抛光垫进行刷洗，但其不能彻底清除抛光垫表面空隙中残余的抛光液和细微的结晶，不利于抛光垫表面结构的回复。另外，由于自带刷子尺寸较小，刷洗过程中使得抛光垫受力不均，这会对抛光垫的表面状态产生一定影响。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种结构简单、提高抛光质量的有蜡抛光的抛光垫专用刷子。

本实用新型的技术方案是：一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子，包括圆盘状的刷体，所述刷体的顶面带有若干凸起或凹陷，所述刷体的底面分布有刷毛，所述刷毛呈环形分布。

优选地，所述刷体的材质为聚氯乙烯，所述刷毛的材质为尼龙。

优选地，所述刷体的直径为48cm，厚度为3cm，所述刷毛的长度为1.5cm。

本实用新型具有的优点和积极效果是：

由于采用上述技术方案，保持了抛光垫的洁净，保持了抛光速率和抛光质量，也提高了抛光垫的使用寿命。由此可见，本方案的使用提高了产品的合格率和生产效率，同时减低了能耗，节约了成本，提高了效益。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的仰视图；

图3是本实用新型的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施方式对本实用新型作进一步说明。

如图1至图3所示，本实用新型包括圆盘状的刷体1，所述刷体1的顶面带有若干凹陷，所述刷体1的底面分布有刷毛2，所述刷毛2呈环形分布。

所述刷体1的材质为聚氯乙烯，所述刷毛2的材质为尼龙。

所述刷体1的直径为48cm，厚度为3cm，所述刷毛2的长度为1.5cm。

使用时，将本实用新型放置在待清洁的抛光垫上，将机械臂与本实用新型的顶面相连接（可以通过吸附的方式连接），带动本实用新型以一定的运动轨迹运动，对旋转的抛光垫进行清洗。本实用新型对抛光垫上的抛光液和结晶清洁得更为彻底，而且有助于抛光垫表面绒孔结构的回复，有助于延长抛光垫的使用寿命和抛光质量的提高。

实验一：选择200片相同的6寸硅片进行试验，晶向<111>，拉晶方式：FZ，掺杂元素：P，厚度：630---632μm。下表为使用本实用新型前后检测项的数值。

实验二：选择200片相同的5寸硅片进行实验，晶向<100>，拉晶方式：CZ，掺杂元素：B，厚度：525---530μm。下表为使用本实用新型前后检测项的数值。

由表中数据可以看出，抛光速率的提高增加了效率，降低了单位时间的能耗，而雾值、颗粒值和划道片数的降低则提高了产品的合格率，这些都有助于成本的降低。

以上实施例对本实用新型进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。