[实用新型]研磨治具有效
| 申请号： | 201320797436.9 | 申请日： | 2013-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN203738565U | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 洪岳旭 | 申请（专利权）人： | 洪岳旭 |
| 主分类号： | B24B37/27 | 分类号： | B24B37/27 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅;王燕秋 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
1.一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶来结合一表层面形成有多个预设大小的承置空间的置放座，并在所述基材的另一侧设置一层用于贴设一底座的胶；
所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述承置空间内部的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
2.一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶结合一表层面形成有多个预设大小承置空间的置放座，并在每一所述承置空间内部置入朝上层面设有一层胶的结合片，所述结合片底部与所述承置空间内的胶呈方位牵制，而在所述基材的另一侧也设有一层用于贴设一底座的胶；
所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述结合片上的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
3.一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶结合一表层面形成有多个预设大小承置空间的置放座，并在每一所述承置空间内部置入结合片，所述结合片底部与所述承置空间内的胶呈方位牵制，而在所述基材的另一侧也设有一层用于贴设一底座的胶；
所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与用水沾湿的结合片形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
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