[实用新型]一种氨法双级氧化装置有效
申请号: | 201320785164.0 | 申请日: | 2013-12-04 |
公开(公告)号: | CN203612974U | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 黄健;文哲;雷伟;童杰 | 申请(专利权)人: | 武汉市大富石化科技有限公司 |
主分类号: | C01C1/246 | 分类号: | C01C1/246 |
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地址: | 430000 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氨法双级 氧化 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于提高烟气氨法脱硫副产硫酸铵纯度领域,更具体的说涉及一种采用氨法双级氧化方法提高硫酸铵纯度装置。
背景技术
目前使用的氨法脱硫技术,伴随着脱硫过程,有大量硫酸铵副产品产生,但目前的技术普遍存在着副产硫酸铵产品纯度不高,夹杂着大量亚硫酸铵和亚硫酸氢铵,目前的处理工艺很难将其全部转化成硫酸铵,则副产品硫酸铵纯度难以达到国家化肥标准。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种利用氨水还原法,将混合溶液中的亚硫酸氢铵还原成亚硫酸铵后,再经两级氧化成硫酸铵的氨法双级氧化装置。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种氨法双级氧化装置,包括静态混合装置及连接在静态混合装置后部的一级氧化装置和二级氧化装置,所述静态混合装置包括混合箱,所述混合箱一端部设置有进料口和氨水进口,所述混合箱远离进料口端设置有排液口,所述排液口与一级氧化装置连接,所述一级氧化装置和二级氧化装置均为喷射氧化装置,所述喷射氧化装置包括氧化溶液室,所述氧化溶液室上设置有氧化喷射器,所述氧化喷射器一端设置于氧化溶液室内部另一端设置于氧化溶液室外部,所述设置于氧化溶液室外部的氧化喷射器端部设置有溶液进口和空气进口,所述喷射氧化装置底部设置有溶液出口。
优选的,所述混合箱内设置有折流挡板,使得混合溶液和氨水能够在混合箱内进行充分的混合,保证混合溶液中亚硫酸氢铵能够与氨水进行充分的反应,直至基本全部转化为亚硫酸铵。
优选的,所述进料口和氨水进口呈垂直设置。
优选的,所述排液口与一级氧化装置上的溶液进口相连,所述一级氧化装置上的溶液出口与二级氧化装置上的溶液进口相连。
在尾气脱硫中得到副产品硫酸铵混合溶液中还有大量的亚硫酸铵和亚硫酸氢铵,本实用新型氨法双级氧化装置首先利用静态混合装置将硫酸混合溶液与氨水混合,测量出混合溶液中的亚硫酸氢铵溶液的浓度或含量,使之与氨水等量反应,将亚硫酸氢铵全部还原成亚硫酸铵,使得混合溶液的成分为硫酸铵和亚硫酸铵,再将硫酸铵和亚硫酸铵的缓和溶液经过一级氧化装置和二级氧化装置,使得硫酸铵和亚硫酸铵的缓和溶液中的亚硫酸铵与氧气充分反应,将其氧化成硫酸铵,提高硫酸铵的氧化率和亚硫酸铵的转化率,最终得到的成品中不还有亚硫酸氢铵,还有及少量的亚硫酸铵,硫酸铵的含量能够达到90%以上。
采用上述技术方案的有益效果是:本实用新型氨法双级氧化装置,操作简单,能够实现将混合溶液中的亚硫酸氢铵全部转化,使得亚硫酸氢铵的转化率达98%以上,亚硫酸铵的氧化率达98%以上,硫酸铵的纯度能够达到90%以上,装置整体操作简单,采用双级氧化装置,改变原来的双喷射氧化装置的氧化法,降低了氧化溶液室受到的喷射冲击力,提高了喷射氧化装置的使用寿命。
附图说明
图1为本实用新型一种氨法双级氧化装置的结构示意图,
其中,1、混合箱,2、氨水进口,3、进料口,4、折流挡板,5、氧化溶液室,6、氧化喷射器,7、溶液出口,8、空气进口,9、溶液进口,10、排液口, A、静态混合装置,B、一级氧化装置,C、二级氧化装置。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本实用新型的技术方案和结构进行说明,以便于本技术领域的技术人员理解。
如图1所示,一种氨法双级氧化装置,包括静态混合装置A及连接在静态混合装置A后部的一级氧化装置B和二级氧化装置C,所述静态混合装置A包括混合箱1,所述混合箱1一端部设置有进料口3和氨水进口2,所述混合箱1远离进料口3端设置有排液口10,所述排液口10与一级氧化装置B连接,所述一级氧化装置B和二级氧化装置C均为喷射氧化装置,所述喷射氧化装置包括氧化溶液室5,所述氧化溶液室5上设置有氧化喷射器6,所述氧化喷射器6一端设置于氧化溶液室5内部另一端设置于氧化溶液室5外部,所述设置于氧化溶液室5外部的氧化喷射器6端部设置有溶液进口9和空气进口8,所述喷射氧化装置底部设置有溶液出口7。
所述混合箱1内设置有折流挡板4。
所述进料口3和氨水进口2呈垂直设置。
所述排液口10与一级氧化装置B上的溶液进口9相连,所述一级氧化装置B上的溶液出口7与二级氧化装置C上的溶液进口9相连。
上述结合附图对实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的这种非实质改进,或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其他场合的,均在本实用新型的保护范围之内。
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