[实用新型]一种用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置有效
| 申请号： | 201320782705.4 | 申请日： | 2013-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN203890490U | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 戴小林;崔彬;刘大力;姜舰;李洋;吴志强;汪丽都 | 申请（专利权）人： | 有研新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/00 | 分类号： | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 直拉硅单晶炉 氩气帘 装置 | ||
1.一种用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，该装置安装在直拉硅单晶炉的热场上方，包括环形布置的数个气嘴，该数个气嘴围绕晶体轴呈对称分布。
2.根据权利要求1所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，所述数个气嘴以法兰的方式安装单晶炉的炉盖的下方，气嘴的喷孔朝向炉底。
3.根据权利要求1所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，在单晶炉的炉盖的下方安装一挂筒，所述数个气嘴布置在该挂筒的内壁上，气嘴的喷孔朝向晶体轴。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，所述气嘴的截面形状为圆形、椭圆形、正方形、长方形或其它不规则的形状。
5.根据权利要求4所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，所述气嘴的截面面积为1～350mm2。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，所述气嘴的数量为2～500个。
7.根据权利要求6所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，所述气嘴的个数为12个。
8.根据权利要求1～3中任一项所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，所述气嘴的边缘形状为有倒角的或者为圆弧状的。
9.根据权利要求1～3中任一项所述的用于直拉硅单晶炉的氩气帘装置，其特征在于，通过所有气嘴的氩气的总流量为10～300slpm。
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