[实用新型]一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置有效
| 申请号: | 201320775299.9 | 申请日: | 2013-11-28 |
| 公开(公告)号: | CN203639552U | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
| 发明(设计)人: | 秦文锋;陈路玉;杨文志;李学军 | 申请(专利权)人: | 中山市创科科研技术服务有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511 |
| 代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人: | 吴剑锋 |
| 地址: | 528400 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 增强 化学 沉积 装置 | ||
1.一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置,其特征在于:包括有反应室(1),在所述的反应室(1)上连接有等离子体激发室(2),在所述等离子体激发室(2)上连接有等离子管(3),在所述等离子管(3)上连接有波导管(4),在所述的波导管(4)上设有磁体(5),在所述的等离子管(3)上连接有第一反应气体进气管(6),在所述的反应室(1)内设有基片加热器(7),所述的反应室(1)与抽真空装置相连接,在所述的反应室(1)上连接有第二反应气体进气管(8)。
2.根据权利要求1所述的一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置,其特征在于所述的磁体(5)为套设在波导管(4)上的电磁线圈。
3.根据权利要求1所述的一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置,其特征在于在所述的第一反应气体进气管(6)上设有控制阀(9)。
4.根据权利要求3所述的一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置,其特征在于在所述的第一反应气体进气管(6)上分别连接有氮气进气管(10),氧气进气管(11)和氩气进气管(12)。
5.根据权利要求1所述的一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置,其特征在于在所述的第二反应气体进气管(8)上设有控制阀(9)。
6.根据权利要求1所述的一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置,其特征在于在所述反应室(1)上设有真空泵连接管(13),所述的抽真空装置通过真空泵连接管(13)与反应室(1)相连接。
7.根据权利要求1所述的一种微波受激等离子体增强化学气相沉积装置,其特征在于等离子体激发室(2)为石英管。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





