[实用新型]用于确定植体仿体位置的参考构件和系统有效

专利信息
申请号: 201320756446.8 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN203693782U 公开(公告)日: 2014-07-09
发明(设计)人: A·盖尔 申请(专利权)人: Zfx有限责任公司
主分类号: A61C8/00 分类号: A61C8/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王琼先;蔡胜利
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 植体仿 体位 参考 构件 系统
【说明书】:

优先权声明

本实用新型基于35U.S.C.§119(e)要求下述的优先权利,美国临时专利申请号61/718,462,发明人Geier,发明名称“用于确定植体或仿体位置的配合支撑架和参考体”,申请日2012年10月25日,美国临时专利申请号61/747,620,发明人Geier,发明名称“用于确定植体或仿体位置的配合支撑架和参考体”,申请日2012年12月31日,以及美国临时专利申请号61/800,899,发明人Geier,发明名称“用于确定植体仿体位置的参考构件”,申请日2013年3月15日,通过参考其全文而将其每个的内容结合与此。

技术领域

本专利文件一般涉及用于在三维(3-D)空间中确定植体仿体位置的装置。

背景技术

确定植体仿体的位置是困难的。可将植体仿体嵌入工作模型中。目前,可将参考构件旋拧至植体仿体,并且可通过多个扫描器确定植体仿体的对准和位置。参考构件是带有扁平段的圆柱形的或锥形的柱体,所述扁平段可用于构件体的几何定向。参考构件可与许多植体仿体系统中的每个相匹配。因此,需要高度的使用技巧和专注度来将参考构件匹配到每个植体仿体系统。为了在数据处理过程中降低可能存在的误差,可以在选择对应的几何形状时手动地记录或者完成参考构件的对准或位置。

参考构件的尺寸受到邻近的牙齿的制约,使得柱体不能比大约5毫米(mm)更厚。参考构件的测量可以是接触式的以及视觉式的尝试。接触式测量可包括测量柱体的盖表面,其由圆形和平面限定。圆形的中心和描述平面位置的矢量可以表示参考构件的方向。由于所测柱体的高度已知,可以表述出植体仿体的位置和方向。参考构件的视觉式测量可被扫描,并且软件能压缩数据。同样使用该技术,可以获得盖表面的中心。

确定植体仿体位置的另一种方法是最优拟合函数。在该技术中,可相对于其它物体对参考构件扫描或三角化处理。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供用于确定植体仿体位置的参考构件和系统。

为更好的图示这里公开的参考构件以及相关的方法,此处提供了一系列非限制性的实施例:

实施例1中,用于确定植体仿体位置的参考构件,其包括具有第侧一面和基本上平行的第侧二面的梯形体,第一侧面限定第一尺寸,第二侧面限定比第一尺寸大的第二尺寸;置于梯形体根端上的根面层,其包括根孔;以及置于梯形体冠状端上的冠面层,其至少包括第一参考码和第二参考码。

实施例2中,实施例1的参考构件可选地配置为使得根面层和冠面层与梯形体形成一体。

实施例3中,实施例1-2的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得根面层和冠面层形成为与梯形体相联接的分开的部件。

实施例4中,实施例1-3的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得第一参考码与第二参考码不同。

实施例5中,实施例1-4的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得第一参考码位于第一侧面和冠面层中心之间。

实施例6中,实施例1-5的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得第二参考码位于第二侧面和冠面层中心之间。

实施例7中,实施例1-6的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得第一和第二参考码的至少一个是12位编码,32位编码以及64位编码之一。

实施例8中,实施例1-7的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得第一参考码和第二参考码被配置为在扫描时提供参考构件的定向。

实施例9中,实施例1-8的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得第一和第二参考码被配置为在扫描参考码时识别预定的植体仿体。

实施例10中,实施例1-9的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得第一和第二参考码被配置为在扫描参考码时识别预定的植体仿体的位置。

实施例11中,实施例1-10的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得柱从梯形体根面层延伸,该柱包括与根孔相连通的钻孔。

实施例12中,实施例1-11的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得该柱被配置为与植体仿体搭扣配合或压配合。

实施例13中,实施例1-12的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得可穿过在参考构件的冠面层上形成的冠孔够到植体仿体。

实施例13中,实施例1-12的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得参考构件是口外型的。

实施例14中,实施例1-13的参考构件的任一或任意组合可选地配置为使得可穿过在参考构件的冠面层上形成的冠孔够到植体仿体。

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