[实用新型]一种新型激光光致化学气相反应装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种新型激光光致化学气相反应装置。

背景技术

现有的新型激光光致化学气相反应装置其结构相对比较复杂，生产成本高。故有必要提供一种结构简单，投入成本低的新型激光光致化学气相反应装置，以满足需求。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，生产成本低，新型激光光致化学气相反应装置。

为了达到上述目的，本实用新型采用以下方案：

一种新型激光光致化学气相反应装置，其特征在于：包括有反应炉，在所述的反应炉内设有石英管，在所述石英管一端上设有能让激光束透过的窗口，在所述石英管设有窗口一端上设有第一进气口和第二进气口，在所述石英管另一端上设有真空泵连接管，在所述石英管内设有基片架。

如上所述的新型激光光致化学气相反应装置，其特征在于所述基片架平衡与所述石英管轴向方向设置，所述基片架与石英管内壁的最短距离为5-10mm。

如上所述的新型激光光致化学气相反应装置，其特征在于在所述反应炉上设有加热机构。

如上所述的新型激光光致化学气相反应装置，其特征在于所述的加热机构为缠绕在反应炉外壁上的加热丝。

综上所述，本实用新型相对于现有技术其有益效果是：

本实用新型产品结构简单，生产成本相对较低。

附图说明

图1为本实用新型的示意图。

具体实施方式

下面结合附图说明和具体实施方式对本实用新型作进一步描述：

如图1所示的一种新型激光光致化学气相反应装置，包括有反应炉1，在所述的反应炉1内设有石英管2，在所述石英管2一端上设有能让激光束3透过的窗口4，在所述石英管2设有窗口4的一端上设有第一进气口5和第二进气口6，在所述石英管2另一端上设有真空泵连接管7，在所述石英管2内设有基片架8。

本实用新型中所述基片架8平衡与所述石英管2轴向方向设置，所述基片架8与石英管2内壁的最短距离为5-10mm。其中在所述反应炉1上设有加热机构。所述的加热机构可为缠绕在反应炉1外壁上的加热丝。所述的加热机构还可以为其它加热方式。

本装置使用ArF激光器在低压下、热壁反应炉中，将NH₃和硅烷光致分解得到SiN。

激光束沿石英管水平方向射入并通过位于基片上方5-10mm处。石英管连续抽真空并用He连续净化以防止汞油倒流，当激光进入石英管中沉积便开始进行。NH₃和硅烷比为5：1，总气压为33Pa，沉积温度为225～625℃。通过改变NH₃/SiH₄比、沉积温度或气体，可以SiN的组分。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征以及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。