[实用新型]一种真空系统以及应用该真空系统的匀胶机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空系统以及应用该真空系统的匀胶机，属于光刻设备技术领域。 

背景技术

目前，随着集成电路、光电技术的发展，需要在基片上蚀刻越来越精细的电路，因此对光刻技术的要求越来越高，匀胶机通过基片的高速旋转，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂覆在基片上；显然，高速旋转时基片的稳定性直接影响着光刻胶涂覆的均匀度和平整度，即使是细微的抖动也会对后续的生产造成不利影响。 

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种生产质量高的真空系统以及应用该真空系统的匀胶机。 

本实用新型的目的是这样实现的： 一种真空系统，所述真空系统包含有轴支座，所述轴支座上竖向设置有一轴孔，所述轴孔内插置有一轴，所述轴的中心设置有一与沿其长度方向的通孔，所述轴支座的外侧壁上设置有抽气嘴，且抽气嘴与轴支座的轴孔相连通。 

本实用新型一种真空系统，所述轴孔的内壁自上而下依次设置有上轴承卡口、下轴承卡口和骨架油封卡口，套装于轴上的上轴承、下轴承和骨架油封分别嵌于上轴承卡口、下轴承卡口和骨架油封卡口内。 

本实用新型一种真空系统，所述轴孔的底部旋置有一密封螺丝，所述密封螺丝和骨架油封卡口之间构成一气腔，上述抽气嘴和轴的通孔均与该气腔相连通，从而构成一导气回路。 

一种匀胶机，所述匀胶机采用上述真空系统。 

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是： 

本实用新型通过在基片下方形成负压，从而利用基片上方的大气压将基片牢牢的压在轴上，使得基片在高速旋转的过程中仍然能够保持其平稳，采用真空吸附能够有效减少夹具带来的扰流影响，有效的提高了光刻胶涂覆时的均匀度和平整度，有利于提高后续产品的生产质量。

附图说明

图1为本实用新型真空系统以及应用该真空系统匀胶机的结构示意图。 

图2为本实用新型真空系统以及应用该真空系统匀胶机的轴支座的结构示意图。 

其中： 

轴支座1、轴孔2、轴3、抽气嘴4、密封螺丝5；

上轴承卡口2.1、下轴承卡口2.2、骨架油封卡口2.3；

上轴承3.1、下轴承3.2、骨架油封3.3。

具体实施方式

参见图1和图2，本实用新型涉及的一种真空系统以及应用该真空系统的匀胶机，所述真空系统包含有轴支座1，所述轴支座1上竖向设置有一轴孔2，所述轴孔2内插置有一轴3，所述轴3的中心设置有一与沿其长度方向的通孔，所述轴孔2的内壁、自上而下依次设置有上轴承卡口2.1、下轴承卡口2.2和骨架油封卡口2.3，套装于轴3上的上轴承3.1、下轴承3.2和骨架油封3.3分别嵌于上轴承卡口2.1、下轴承卡口2.2和骨架油封卡口2.3内，所述轴支座1的外侧壁上设置有抽气嘴4，且抽气嘴4与轴支座1的轴孔2相连通；具体的讲，所述轴孔2的底部旋置有一密封螺丝5，所述密封螺丝5和骨架油封卡口2.3之间构成一气腔，上述抽气嘴4和轴3的通孔均与该气腔相连通，从而构成一导气回路； 

工作时，基片位于轴3上方，通过抽气嘴4进行抽气作业，从而经抽气嘴4、气腔、轴3的通孔这个导气回路在基片的下方形成一负压，使基片牢牢的吸附在轴3上，有效的防止了其在高速旋转时产生晃动。