[实用新型]一种用气相法生产纳米级二氧化硅的反应器有效
申请号: | 201320700102.5 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN203540510U | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 胡光健;黄彬;陈喜清 | 申请(专利权)人: | 新特能源股份有限公司 |
主分类号: | B01J12/02 | 分类号: | B01J12/02;C01B33/12;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 刘洪京 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用气相法 生产 纳米 二氧化硅 反应器 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种用气相法生产纳米级二氧化硅的反应器,属于纳米级二氧化硅生产技术领域。
背景技术
纳米级二氧化硅是一种用途广泛的纳米粉体材料。气相法生产纳米级二氧化硅是利用氯硅烷经氢氧焰高温水解制得的一种精细、特殊的无定形粉体材料,平均原生粒径约为7-40纳米,聚集体粒径约为200-500纳米,比表面积50~380m2/g,产品纯度高,SiO2含量不小于99.8%,是一种多功能添加剂,在橡胶、涂料、胶粘剂、油漆、油墨、塑料、化妆品以及农业、医药等行业有着广泛的应用,具有良好的补强、增稠、触变、消光、抗紫外线、杀菌等多种作用。
反应器对于纳米级二氧化硅的生产具有重要的作用,物料在燃烧反应区的混合分布情况、 停留时间以及反应器喷嘴处结疤情况都与反应器的结构有一定关系。
专利文献CN 102167335 A公开了一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,包括:限定有反应腔的反应器本体,所述反应器本体的上部设有四氯化硅- 空气入口和氢气入口,所述反应器本体的底部设有反应器出口;嘴套,所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所述反应器本体限定出向下开口的环形空间;与所述嘴套相连以向所述环形空间内供给氢气的环隙氢气进口管;和设置在所述反应腔内用于均匀分布从所述四氯化硅- 空气入口和所述氢气入口供给到反应腔内的四氯化硅- 空气和氢气的分布器。
此种反应器依旧未能解决反应器喷嘴处结疤的问题,使用过程中喷嘴处极易结疤,严重制约了气相法二氧化硅的生产连续性;另外,此反应器分成多个部分,拆卸安装均不方便,尤其是嘴套与反应器本体采用螺杆固定,嘴套与反应器的间隙很小,安装不稳定则会影响反应的进行。
发明内容
针对现有技术的反应器的缺陷,本实用新型的目的在于提供一种用气相法生产纳米级二氧化硅的反应器。该反应器可以有效的解决反应器内壁易结疤的问题,以及方便反应器的拆卸与安装。
本实用新型的技术方案是: 一种用气相法生产纳米级二氧化硅的反应器,包括,氢气进料口⑷,混合气相进料口⑸,环隙氢气进料口⑹,出料口⑺,环形夹套⑻,分布器⑼,其特征在于,反应器由本体和分布器⑼两部分组成;反应器本体为圆筒形的反应腔体,本体分为三段,分别是反应器一段⑴、反应器二段⑵、反应器三段⑶,其三段之间由螺纹连接;反应器一段⑴有两个进料口,反应器一段⑴顶部的进料口为氢气进料口⑷;反应器一段⑴侧面延腔体切线方向的进料口为氯硅烷与空气的混合气相进料口⑸,反应器一段⑴底部与反应器二段⑵连接;反应器二段⑵为圆筒形腔体,反应器二段⑵底部与反应器三段⑶连接;反应器三段⑶底部为反应器的出料口⑺,反应器三段⑶腔体外部有一层环形夹套⑻,夹套顶部进料口为环隙氢气进料口⑹,反应器三段⑶腔体出料口⑺底端与环隙夹套⑻底端平齐。
本实用新型通过对反应器的结构进行改造,克服反应器内部频繁出现结疤堵塞的缺陷;另外,将反应器与外层的环形夹套设计成一体形式,方便了反应器的拆装。
附图说明
附图用于对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1 为本实用新型一种用气相法生产纳米级二氧化硅的反应器结构示意图;
图中:1-反应器一段 2-反应器二段 3-反应器三段 4-氢气进料口 5-混合气相进料口 6-环隙氢气进料口 7-出料口 8-环形夹套 9-分布器。
具体实施方式
以下结合附图和实施例,对本实用新型一种用气相法生产纳米级二氧化硅的反应器,作详细的解释。
图1是本实用新型一种用气相法生产纳米级二氧化硅的反应器结构示意图;
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