[实用新型]一种常压化学气相淀积设备的履带轨迹自动调整装置有效

专利信息
申请号: 201320682173.7 申请日: 2013-10-31
公开(公告)号: CN203639554U 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 牟雷;傅仁宏 申请(专利权)人: 上海广奕电子科技有限公司
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所 31251 代理人: 王法男
地址: 201300 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 常压 化学 气相淀积 设备 履带 轨迹 自动 调整 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种常压化学气相淀积设备的履带轨迹自动调整装置,属于工业控制系统技术领域。

背景技术

针对现有半导体生产线所使用的WJ-999设备出现由于履带偏执导致的履带磨损,掉片等不同问题并无很好的解决方案。

1.履带磨损:在设备的进口进口加装定向轮,虽然可以调整履带轨迹但由于定向轮的磨损也经常需要更换,耗时耗力。

2.掉片:由于履带与腔室摩擦导致的出片端两片晶片不同步而出现的掉片问题,很多生产线加装检测掉片装置作为提示,后人为取出将要掉落或已经掉落的晶片,如取片不及时可能造成产品报废

实用新型内容

本实用新型的目的:旨在提供一种结构简单,安全可靠,能够调整履带轨迹的自动调整装置。

这种常压化学气相淀积设备的履带轨迹自动调整装置设置在工艺腔室出口位置的履带下方,其特征在于:所述的履带轨迹自动调整装置包括对称设置在履带下方的调整轴以及对称设置在调整轴两端的左步进电机和右步进电机;所述履带下方还设有传感器和控制器,所述控制器通过连接线分别与步进电机和传感器电气连接,由此构成履带自动调整装置。

所述的传感器为光电对射传感器。

本实用新型的有益效果是:本装置在出口位置对履带位置进行检测,如传感器检测到履带偏离则反馈给控制器,控制器通过调整器对履带位置调整,直到位置正常。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的系统示意图;

图2是本实用新型的结构示意图;

图中,1-左步进电机  2-调整轴  3-右步进电机  4-连接线  5-传感器  6-控制器  7-履带。

具体实施方式

下面我们结合附图和具体的实例来对这种常压化学气相淀积设备的履带轨迹自动调整装置进一步的详细说明,以求更为清楚明白地阐述其结构和使用方式。

这种常压化学气相淀积设备的履带轨迹自动调整装置设置在工艺腔室出口位置的履带下方,其特征在于:所述的履带轨迹自动调整装置包括对称设置在履带7下方的调整轴2以及对称设置在调整轴2两端的左步进电机1和右步进电机3;所述履带7下方还设有传感器5和控制器6,所述控制器6通过连接线4分别与步进电机和传感器5电气连接,由此构成履带自动调整装置。

所述的传感器5为光电对射传感器。用于检测履带的左右位置偏移。

在设备运行中,若履带7向右发生偏移,阻断了传感器5的信号,控制器6监测到传感器5被阻断的状态之后,向右步进电机3发出控制指令,右步进电机3带动调整轴2的右端上升并抵住履带7右侧,履带7随之沿相反方向移动,直至履带7离开传感器位置,使传感器5的信号恢复正常连接。反之亦然。

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