[实用新型]一种紫外发光二极管有效

专利信息
申请号: 201320641628.0 申请日: 2013-10-17
公开(公告)号: CN203596359U 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 吴志浩;方妍妍;戴江南;陈长清 申请(专利权)人: 武汉光电工业技术研究院有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/14;B82Y30/00
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 430075 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 紫外 发光二极管
【权利要求书】:

1.一种紫外发光二极管,其特征在于,包括: 

衬底; 

AlN本征层,形成在所述衬底上; 

n型AlxGa1-xN层,形成在所述AlN层上,且所述n型AlxGa1-xN层具有第一表面和第二表面; 

AlxGa1-xN多量子阱层,形成在所述n型AlxGa1-xN层的第一表面上; 

p型AlxGa1-xN电子阻挡层,形成在所述AlxGa1-xN多量子阱层上; 

P型GaN层,形成在所述p型AlxGa1-xN电子阻挡层上; 

纳米金属颗粒结构,形成在所述P型GaN层上; 

电流扩展层,形成在所述纳米金属颗粒结构上; 

p型电极,形成在所述电流扩展层上; 

n型电极,形成在所述n型AlxGa1-xN层的第二表面上; 

倒装基板,通过焊料分别与所述p型电极和所述n型电极焊接。 

2.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述衬底是蓝宝石、碳化硅或AlN。 

3.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述AlN本征层的厚度在0-10微米之间。 

4.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述n型AlxGa1-xN层的厚度为0.1-10微米。 

5.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述AlxGa1-xN多量子阱层的厚度为1-500纳米。 

6.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述p型AlxGa1-x N电子阻挡层的厚度为1-200纳米。 

7.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述p型GaN层厚度为1-200纳米。 

8.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述金属纳米颗粒结构中的金属纳米颗粒直径为1-500纳米。 

9.如权利要求1所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述电流扩展层为与所述p型GaN层形成欧姆接触的非金属导电层。 

10.如权利要求9所述的紫外发光二极管,其特征在于,所述电流扩展层为氧化铟锡、氧化镓锌或氧化铝锌。 

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