[实用新型]一种改进的条码刻蚀设备

权利要求书

1.一种改进的条码刻蚀设备，其特征在于：结构中包括机基座（1），基座（1）上设置有传送带（2）、支架（3）和激光器（4），支架（3）上滑动设置有滑轨（5），滑轨（5）上固定设置有出光孔（6），滑轨（5）通过第一调节器（11）调节上下的位置，出光孔（6）通过光纤（7）与激光器（4）相连，出光孔（6）内设置有两个相互垂直的振镜（8），激光器（4）内设置有一个分光镜（9），分光镜（9）分出的一条光路从出光孔（6）射出，另一条光路通过光纤（7）引导从光斑质量检测孔（10）射出，光斑质量检测孔（10）和出光孔（6）刚性连接，光斑质量检测孔（10）与出光孔（6）处于同一水平高度上；传送带（2）侧面设置有一个定位块（12），传送带（2）上部设置有一个下压块（13），定位块（12）上设置有第二调节器（21），下压块（13）上设置有CMOS传感器（14），CMOS传感器（14）的受光面与下压块（13）的底面处于同一水平高度，CMOS传感器（14）连接至工控机（15），定位块（12）和下压块（13）连接有气缸（16）；基座（1）外侧设置有滤光罩（17）。

2.根据权利要求1所述的改进的条码刻蚀设备，其特征在于：所述第一调节器（11）和第二调节器（21）的旋钮上设置有千分尺（18）。

3.根据权利要求1所述的改进的条码刻蚀设备，其特征在于：所述滑轨（5）的上下位置分别设置有锁紧螺母（19）。

4.根据权利要求1所述的改进的条码刻蚀设备，其特征在于：所述滑轨（5）和出光孔（6）之间设置有稳定杆（20）。

5.根据权利要求1所述的改进的条码刻蚀设备，其特征在于：所述基座（1）采用大理石材质。

6.根据权利要求1所述的改进的条码刻蚀设备，其特征在于：所述分光镜（9）的透/反光比为1:1。