[实用新型]一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置

说明书

技术领域

本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域，特别涉及一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置。

背景技术

磁控溅射镀膜设备应用在薄膜太阳能领域为薄膜太阳能电池提供背电极，起到反光的作用，增加了太阳光的利用率从而有效的提高了太阳能电池的转化效率。另外，背电极还起到将太阳能电池基板每个子电池串联的导线作用，所以在进行工艺制备时他们的方阻越小越好。因此，在工艺中有时会使用银来代替铝来制备背电极来减小方阻，但由于银靶在使用中会在基板边缘产生绕镀现象，该现象会影响基板外观及后续工艺的实施。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是如何克服现有技术的上述缺陷，提供一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置。该一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置可有效防止银靶使用中在基板边缘产生的绕镀现象。

为解决上述技术问题，本一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置，包括设置在银靶腔室中的由无油链条、无油齿轮和轴承组成的链条传动装置、设置在链条传动装置上的上、下两组承载装置和位于链条传动装置同侧的三个传感器以及设置在银靶腔室外的电机、主动轮、从动轮和磁流体，电机连接主动轮，主动轮和从动轮啮合，从动轮通过传动轴连接链条传动装置，传动轴通过磁流体穿透银靶腔室；两组承载装置均安装在无油链条上，每组承载装置均包括用于遮挡基板前边缘的前承载挡片、中间承载挡片和后承载挡片以及便于承载装置传动、且可遮挡基板侧边缘的若干个侧承载挡片。

如此设计，可通过前承载挡片、中间承载挡片和后承载挡片以及若干个侧承载挡片将基板边缘全部遮挡，有效防止银靶使用中在基板边缘产生的绕镀现象。

作为优化，前承载挡片与后承载挡片之间的距离与基板运动方向上前边缘与后边缘距离相等。如此设计，使用方便、且效果较好。

作为优化，前承载挡片、中间承载挡片、后承载挡片和侧承载挡片均由两层结构构成，上层是四氟材料层，下层为钢板层，且钢板层三面被四氟材料层包裹。如此设计，可防止基板面被划伤。

作为优化，前承载挡片、中间承载挡片和后承载挡片的两端均通过螺丝和螺母贯穿安装于左、右无油链条之间；每个侧承载挡片的一端均通过螺丝和螺母安装在无油链条上。如此设计，便于将前承载挡片、中间承载挡片和后承载挡片的两端固定在无油链条之间以及将侧承载挡片安装在无油链条上。

作为优化，三个传感器中，第一传感器设置在第三传感器的正上方，第一传感器和第二传感器在同一个水平面上。

作为优化，银靶腔室前端的基板前置腔体中设有第四、第五两个传感器，当基板从第五传感器处到达第一传感器处时，下组承载装置从第三传感器转动到第一传感器，使其前承载挡片承载基板的前边缘。

具体使用方法为：开始时，该一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置的下承载装置的前承载挡片处于初始位置第三传感器处，磁控溅射镀膜机通过信号传输来确定基板的位置，并计算基板传入银靶腔室到达第一传感器处的时间，PLC给银靶腔室的电机信号使电机转动，在这段时间内使该传动装置的下承载装置的前承载挡片从第三传感器处到达第一传感器处，后承载挡片承载基板后边缘。通过承载装置的前、中、后、侧承载挡片对基板面进行遮挡来防止银靶绕镀，同时将基板传入下一腔体。当后承载挡片离开第二传感器处，确认基板已经传入下一腔室后，该传动装置的下承载装置的前承载挡片迅速转动到第三传感器处，该装置处于等待状态。

由于PVD采用不间断溅射方式，当基板组到达第五传感器处时，PLC通过第五传感器到第一传感器的距离及基板传送速度可计算出基板到达第一传感器处的时间，银靶腔室的电机控制传动速度，使该装置在此时间点从第三传感器处转动到第一传感器处，使该装置的前承载挡片承载基板的前边缘。

本实用新型一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置，设计科学、使用方便，可有效防止银靶使用中在基板边缘产生的绕镀现象。具有较好的实际应用价值和推广价值。

附图说明

下面结合附图对本一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置作进一步说明：

图1是本一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置的结构示意图；

图2是本一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置的前承载挡片、中间承载挡片、后承载挡片和侧承载挡片的结构示意图；

图3是本一种防止磁控溅射中银靶在基板边缘绕镀的传动装置的前承载挡片与无油链条连接的结构示意图；