[实用新型]一种多靶位磁控溅镀机

权利要求书

1.一种多靶位磁控溅镀机，其特征在于，所述多靶位磁控溅镀机由包含上载室、电浆清洁室、溅射前缓冲室、第一溅镀室、第二溅镀室、过渡缓冲室与下载室在内的多个真空室水平连接而成；所述真空室内设有传送机构，传送机构上设有载具；所述电浆清洁室内配备有射频电浆产生器；所述第一溅镀室与第二溅镀室内部均设有多个电浆发射台；所述每台电浆发射台包含有多组ADL直流电浆源输出装置；所述上载室、电浆清洁室、溅射前缓冲室、第一溅镀室、第二溅镀室、过渡缓冲室与下载室均配备有至少一台排气装置。

2.按照权利要求1所述的多靶位磁控溅镀机，其特征在于，所述载具的尺寸在496mm*646mm至506mm*1006mm之间。

3.按照权利要求1所述的多靶位磁控溅镀机，其特征在于，所述多靶位磁控溅镀机中，上载室与电浆清洁室之间、电浆清洁室与溅射前缓冲室、第二溅镀室与过渡缓冲室、过渡缓冲室与下载室之间均设有至少一个阀门；所述溅射前缓冲室、第一溅镀室与第二溅镀室之间相互连通。

4.按照权利要求1所述的多靶位磁控溅镀机，其特征在于，所述第一溅镀室与第二溅镀室内部均设有2台电浆发射台，每台电浆发射台包含有3组ADL直流电浆源输出装置。

5.按照权利要求1所述的多靶位磁控溅镀机，其特征在于，所述上载室与电浆清洁室均配备有机械泵浦与冷冻泵浦；所述溅射前缓冲室、第一溅镀室、第二溅镀室与过渡缓冲室均配备有冷冻泵浦；所述下载室配备有机械泵浦。