[实用新型]基于双向形状变化的防伪指示标识有效

专利信息
申请号: 201320606227.1 申请日: 2013-09-29
公开(公告)号: CN203607027U 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 魏民;吴雪莲;吕海宝;黄为民 申请(专利权)人: 南京天朗制药有限公司;魏民;吴雪莲;吕海宝;黄为民
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02
代理公司: 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 代理人: 夏哲华
地址: 211200 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 双向 形状 变化 防伪 指示 标识
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及双向可逆形状变化聚合物的应用技术,具体涉及一种基于双向形状变化的防伪指示标识。

背景技术

假冒伪劣商品的存在具有极大的社会危害性。利用最先进的科学成果不断提高和改进防伪技术已成为整个商品经济社会良性发展的迫切需要。目前,已有利用聚合物的单向形状记忆效应产生一次性不可逆的形貌变化来进行防伪指示的技术,如中国专利(授权公告号)CN 101826278 B、CN 102024379 A、CN 101916528 B、、CN 201745882 U、CN 201838256 U、CN 101877196 A及中国专利申请(申请号) 201210480325.5、201210512085.2、201320038240.1、201310045236.2、201310045265.9等。因为这些专利中所述的形貌变化不可逆,不适用于多次性地重复真伪鉴别。

许多聚合物或聚合物复合材料在施加某种特定的激励后,会以线性或非线性的方式发生可逆并且可重复的变形,这类材料被称为具有双向形状变化效应的聚合物。例如,电活性聚合物(Electroactive Polymer)在电场的作用下发生可逆并且可重复的变形,光敏感液晶随特定波长光线的照射和移开而发生多次反复的形状变化。以上是两种典型的双向形状变化聚合物。最近发展起来的双向形状记忆聚合物(包括需要施加约束的和无需施加约束的两大类)是另一类双向形状变化聚合物。关于双向形状记忆聚合物(按上面的定义,应称为双向形状变化聚合物)的具体例子,可参见如中国专利申请《具有双向形状记忆效应的液晶弹性体或纤维及其制备方法》(申请号CN 200810092677.7)和中国专利《双向形状记忆聚合物复合材料及其制备方法》(授权号CN 101164770B)。

目前尚无将双向形状变化聚合物或其复合材料的双向形状变化功能用于防伪标识的记载。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是,提供一种具有双向形貌变化特征的基于双向形状变化的防伪指示标识。

本实用新型的基于双向形状变化的防伪指示标识包括有一个具双向形状变化功能的基体,其表面有至少一处可随特定激励的施加或减弱/消除而发生相应的可逆形貌变化的初始形貌。

所述的可逆形貌变化能够随激励的一次或逐步施加及减弱直至消除而一次或分多次逐步完成。

所述的初始形貌是凹痕、凸痕、皱褶或平整平面这几种形貌中的一种或多种组合。

所述形貌变化发生的激励方式是温度变化、磁场变化、光场变化、电场变化或所浸泡溶液的浓度变化中的一种或多种组合。

所述基体的材料包括能够在某一特定激励作用下,发生相应双向可逆的形状貌变化的聚合物或聚合物复合材料。所述聚合物复合材料是由粉体或者纤维与纯聚合物共混复合所形成的复合材料,或者是聚合物与弹性材料通过分层或分段或分区间复合而形成的复合材料。

所述基体的形状为圆柱形、球形、平板、薄膜、线状、条状中的一种或多种组合。

所述基体可由双向形状记忆聚合物材料的基层与金属或非金属弹性膜组成,所述基层的表面上形成有若干个压痕预变形,所述金属或非金属弹性膜通过溅射或其它物理及化学方式复合在具有压痕预变形的基层表面。

所述基体可由单向形状记忆聚合物材料与弹性聚合物材料复合构成,所述单向形状记忆聚合物材料具有一个结合表面,该结合表面上具有将突起结构压平后形成的压平预变形,所述弹性聚合物材料复合在具有压平预变形的单向形状记忆聚合物材料的结合表面。

所述基体可由弹性材料层、电活性聚合物材料填充部分及电极层复合构成;所述弹性材料层上开有若干个挖空部分,在挖空部分内填充有电活性聚合物材料形成电活性聚合物材料填充部分,所述电极层复合在弹性材料层及电活性聚合物材料填充部分的上、下表面。

本实用新型的防伪指示标识采用具有双向形状记忆效应的基体,能够通过不同条件下的双向形貌变化进行防伪指示。

附图说明

图1是本发明实施例一的示意图;

图2是本发明实施例二的示意图;

图3是本发明实施例三的示意图;

图4是本发明实施例四的示意图。

具体实施方式

下面参照附图和具体实施例对本发明进行进一步详细说明。本发明的保护范围不受具体的实施例所限制。另外,以不违背本发明技术方案的前提下,对本发明所作的本领域普通技术人员容易实现的任何改动或改变都将落入本发明的权利要求范围之内。

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