[实用新型]一种磁流体保护装置

说明书

技术领域

本实用新型属于LED技术领域，主要涉及晶片显影时的磁流体保护装置。

背景技术

目前LED外延衬底图形制造最重要的一环为光刻工艺，光刻工艺的步骤为涂胶，曝光，显影；具体的过程是在晶片的表面涂布上一层厚度均匀的光刻胶，在经过步进式光刻机曝光，把光刻板上的图形转移到光刻胶上，再通过显影液和光照过的光刻胶发生化学反应，最终把外延衬底图形显示出来。显影使用的设备是轨道式显影机，它是靠一个磁流体装置连接上真空通过连轴器和旋转电机的轴体相连，一起旋转来显影的，在显影时晶片要被吸附在吸盘上高速旋转。显影的过程为四步，滴注显影液、显影、甩除显影液以及去离子水冲洗。在这个过程中产生的多余显影液和去离子的混合液体在显影室如果不能及时排走就会顺着旋转电机轴流进真空密封磁流体装置，久而久之就会流进旋转电机，造成磁流体密封真空失效，电机损坏。

实用新型内容

本实用新型提供一种磁流体保护装置，在磁流体本体外围设置一层保护装置，避免废液流进磁流体的轴里，从而达到保护磁流体密封真空装置的目的。

本实用新型的技术方案如下：

一种磁流体保护装置，包括磁流体本体、设置在磁流体本体上方的主轴，其特殊之处在于：还包括保护装置，所述保护装置为下端开口的圆筒结构，所述主轴穿过保护装置的上底面，所述保护装置的筒壁外径与磁流体本体外径相等，所述保护装置的高度小于磁流体本体的高度。

上述保护装置的高度为磁流体本体的高度的1/3至1/6。

上述保护装置为不锈钢材料。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型在磁流体本体上设置一层保护装置，可以完全可以解决废液流进磁流体和电机轴里，延长了磁流体和电机的使用寿命，提高了设备的稳定性、节约了设备及零部件更换的成本，增加了设备的正常使用率和产能，还可提升设备的正常工作时间，提高设备的产能，降低设备故障率。

附图说明

图1为现有技术装置剖面示意图；

图2为本实用新型装置剖面示意图；

图3为显影液溅出后流动示意图；

图4为保护装置示意图；

其中，1－主轴；2－真空孔；3－磁流体本体；4－轴承；5－旋转电机；6－保护装置；7－显影液；8－滴液管；9－晶片；10－吸盘；11－废液；12－转子与轴连接处。

具体实施方式

如图1、图2所示，磁流体装置连接上真空孔2组件通过旋转电机5与主轴1相连，一起旋转来显影的；如图3所示，在显影时，晶片9被吸附在吸盘10上高速旋转，该磁流体本体3保护装置6由旋转电机5、主轴1，真空孔2组件，轴承4，和显影液7组成，为防止在显影这个过程中，废液11不能及时排走而流进磁流体本体3以及旋转电机5，造成磁流体密封真空失效，电机损坏；如图2、图4所示，按照本磁流体的技术方案，把原来的磁流体本体3拆下经过尺寸和轴高的确认，设计出新型磁流体装置，安装后和原来的尺寸对应，即磁流体本体3保护装置6的筒壁外径与磁流体本体3外径相等，磁流体本体3和主轴1的长度不变。采用不锈钢保护装置6设置于磁流体3的外围。

使用本实用新型的磁流体保护装置完全可以解决废液流进磁流体和电机轴里，延长了磁流体和电机的使用寿命，提高了设备的稳定性、节约了设备及零部件更换的成本，增加了设备的正常使用率和产能，还可提升设备的正常工作时间，提高设备的产能，降低设备故障率。