[实用新型]刻蚀设备

权利要求书

1.一种刻蚀设备，用于对待刻蚀晶圆进行刻蚀，其特征在于，所述刻蚀设备包括： 

反应腔室、电子卡盘、顶盘、径向线槽天线、电感耦合电源以及偏置电源；所述电子卡盘设置于所述反应腔室内部，所述顶盘设置于所述反应腔室内顶部，所述径向线槽天线设置于所述顶盘上，所述径向线槽天线与所述电子卡盘相对并保持预定距离，所述电感耦合电源设置于所述反应腔室的顶部，所述偏置电源设置于所述电子卡盘的底部。 

2.如权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述刻蚀设备还包括石英板，所述石英板设置于所述径向线槽天线和电子卡盘之间，所述石英板与所述顶盘相固定。 

3.如权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述电子卡盘分为多个块状，每个块状的温度均可独立控制。 

4.如权利要求3所述的刻蚀设备，其特征在于，所述电子卡盘的材质包括氮化铝、氧化铝以及蓝宝石。 

5.如权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述径向线槽天线与所述电子卡盘的预定距离范围是10mm至50mm。 

6.如权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述偏置电源的个数大于等于1个。