[实用新型]干馏瓦斯积碳特性检测系统有效

专利信息
申请号: 201320584410.6 申请日: 2013-09-22
公开(公告)号: CN203479795U 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 孙佰仲;李少华;王虎 申请(专利权)人: 中国大唐集团科学技术研究院有限公司
主分类号: G01N33/22 分类号: G01N33/22
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 许志勇
地址: 100032 北京市西城区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 干馏 瓦斯 特性 检测 系统
【权利要求书】:

1.一种干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,包括:

一干馏设备,包括一干馏炉、一气体导出管以及一第一冷却水浴,所述气体导出管连接于所述干馏炉与所述第一冷却水浴之间,其中所述干馏炉用以干馏一原料为半焦与干馏气体,所述气体导出管用以输送所述干馏气体,所述第一冷却水浴用以冷却所述干馏气体为干馏瓦斯;

一积碳设备,包括一积碳反应炉以及一反应管,所述反应管可拆卸的设置于所述积碳反应炉上,且所述反应管的一端连接于所述第一冷却水浴,另一端穿过所述积碳反应炉,并且露出于所述积碳反应炉外,其中所述积碳反应炉用以加热所述反应管,所述干馏瓦斯通过所述反应管,并且于所述反应管的内壁面形成积碳;以及

一积碳分析设备,包括一积碳氧化炉、一分析装置以及一第二冷却水浴,所述积碳氧化炉用以加热具有所述积碳的反应管,并且氧化所述积碳为二氧化碳,所述分析装置用以采集所述二氧化碳的数据,并且对应产生积碳数据,所述第二冷却水浴连接于所述积碳氧化炉与所述分析装置之间,用以冷却所述二氧化碳,并且输送所述二氧化碳至所述分析装置。

2.如权利要求1所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述积碳反应炉包括一反应炉体与多个加热单元,所述反应管贯穿所述反应炉体,所述多个加热单元间隔设置于所述反应炉体上,并且分别连接于所述反应管的外壁面。

3.如权利要求1所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述积碳氧化炉包括一本体、一中空管以及一加热器,所述中空管穿过所述本体,用以容纳具有所述积碳的所述反应管,所述加热器设置于所述本体上,并且连接于所述中空管。

4.如权利要求3所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述积碳氧化炉还包括一气体供应装置,连接于所述中空管,且所述气体供应装置的一端与所述中空管的内部环境相连通。

5.如权利要求3所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述第二冷却水浴包括一水浴槽与一冷却管,所述冷却管设置于所述水浴槽内,且所述冷却管的一端连接于所述中空管,另一端连接于所述分析装置。

6.如权利要求5所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述积碳氧化炉还包括一催化剂填充管,连接于所述中空管与所述冷却管路之间。

7.如权利要求5所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述反应管为不锈钢管,所述中空管为石英管以及所述冷却管为螺旋石英冷却管。

8.如权利要求1所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述干馏设置还包括:

一支架,具有相对的一顶部与一底部,所述干馏炉沿所述顶部朝所述底部的方向设置于所述支架上,且所述气体导出管连接于所述干馏炉相邻于所述顶部的一端;

一给料装置,设置于所述顶部,并且连接于所述干馏炉,用以提供所述原料至所述干馏炉;以及

一排渣装置,设置于所述底部,并且连接于所述干馏炉,用以排除所述半焦。

9.如权利要求8所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述给料装置包括一给料斗、一给料机与一给料调频电机,所述给料斗设置于给料机上,所述给料机连接于所述干馏炉,用以自给料斗输送所述原料至所述干馏炉,所述给料调频电机电性连接于所述给料机,用以调节所述给料机的给料速率。

10.如权利要求8所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述排渣装置包括一排渣器、一排渣调频电机与一排渣桶,排渣器连接于所述干馏炉与所述排渣桶之间,用以自所述干馏炉输送所述半焦至所述排渣桶,所述排渣调频电机电性连接于所述排渣器,用以调节所述排渣器的排渣速率。

11.如权利要求8所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述干馏装置还包括一水浴支座,设置于所述支架上,所述第一冷却水浴设置于所述水浴支座上。

12.如权利要求1所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述干馏炉包括一第一控温单元、一第二控温单元以及一第三控温单元,分别用以控制所述干馏炉的炉内温度,其中所述第二控温单元设置于所述第一控温单元与所述第三控温单元之间,所述第一控温单元与所述第三控温单元分别设置于所述干馏炉的相对二端,且所述第一控温单元设置于所述干馏炉相邻于所述气体导出管的一侧。

13.如权利要求1所述的干馏瓦斯积碳特性检测系统,其特征在于,所述干馏炉包括一料位探测单元,设置于所述干馏炉相邻于所述气体导出管的一侧,并且对应于所述气体导出管,用以侦测所述原料于所述干馏炉内的累积高度。

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