[实用新型]复合剥离装置有效

专利信息
申请号: 201320567152.0 申请日: 2013-09-13
公开(公告)号: CN203439807U 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 杨辉勇 申请(专利权)人: 成都中节能反光材料有限公司
主分类号: B65H41/00 分类号: B65H41/00
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 610400 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 复合 剥离 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种复合剥离装置。

背景技术

    在反光布的生产过程中,需要经过复合和剥离的工序,先将基布与镀铝植珠膜复合,再将镀铝植珠膜上的PET层及胶层剥离,保留玻璃微珠和镀铝层粘结在基布上制成反光布。现有的复合剥离装置大多数在剥离分离点加过辊并用两台电机作为动力进行剥离,一方面,分离后的反光布与PET层的牵引速度很难做到一致,这将导致横向线条(褶皱)的产生,直接影响产品质量。另一方面,理想的剥离要求分离点夹角达到或近似于180°,而传统剥离装置的分离点夹角一般小于90°,分离效果不理想。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种新型的适用于反光布生产的复合剥离装置,由光辊作为主动轮同步实现复合和剥离,有效保持分离后的反光布与PET层的牵引速度的一致性,避免出现横向线条;分离点夹角可达180°,分离效果好。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:复合剥离装置,用于将基布与镀铝植珠膜复合,并将镀铝植珠膜上的PET层及胶层剥离,保留玻璃微珠和镀铝层粘结在基布上制成反光布,它包括上胶基布进料过辊、镀铝植珠膜进料过辊、复合装置和剥离装置,上胶基布进料过辊和镀铝植珠膜进料过辊分别设置于复合装置的入口侧,剥离装置设置于复合装置的出口侧;所述的复合装置由相互贴近的光辊和胶辊组成,剥离装置由PET层回收过辊、剥离过辊和反光布出料过辊组成,PET层回收过辊与光辊紧密接触,PET层回收过辊和反光布出料过辊分别设置于剥离过辊的两侧。 

作为优选,胶辊上与光辊相对的一侧设有压辊,压辊压紧胶辊。

作为优选,PET层回收过辊、剥离过辊和反光布出料过辊设置在一条直线上。 

本实用新型的有益效果是:

1)可实现基布与镀铝植珠膜的复合,并将镀铝植珠膜上的PET层及胶层剥离,保留玻璃微珠和镀铝层粘结在基布上制成反光布,适用于反光布生产,且复合剥离装置的结构简单,运行成本低;

2)由光辊作为主动轮同步实现复合和剥离,可有效保持分离后的反光布与PET层的牵引速度的一致性,避免出现横向线条;

3)PET层与反光布的分离点夹角可达180°,分离效果好;

4)压辊配合胶辊使用,可压紧胶辊使胶辊与光辊紧密接触,保证了粘结复合的效果。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图; 

图中,1-上胶基布进料过辊,2-镀铝植珠膜进料过辊,3-光辊,4-胶辊,5-压辊,6- PET层回收过辊,7-剥离过辊,8-反光布出料过辊。

具体实施方式

下面结合附图进一步详细描述本实用新型的技术方案,但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。

如图1所示,复合剥离装置,用于将基布与镀铝植珠膜复合,并将镀铝植珠膜上的PET层及胶层剥离,保留玻璃微珠和镀铝层粘结在基布上制成反光布,它包括上胶基布进料过辊1、镀铝植珠膜进料过辊2、复合装置和剥离装置,上胶基布进料过辊1和镀铝植珠膜进料过辊2分别设置于复合装置的入口侧,剥离装置设置于复合装置的出口侧;所述的复合装置由相互贴近的光辊3和胶辊4组成,剥离装置由PET层回收过辊6、剥离过辊7和反光布出料过辊8组成,PET层回收过辊6与光辊3紧密接触,PET层回收过辊6和反光布出料过辊8分别设置于剥离过辊7的两侧。 

作为优选,胶辊4上与光辊3相对的一侧设有压辊5,压辊5压紧胶辊4。

作为优选,PET层回收过辊6、剥离过辊7和反光布出料过辊8设置在一条直线上,保证PET层与反光布的分离点夹角近似180°。 

本实用新型的工作过程如下:从烘箱出来的上胶基布通过上胶基布进料过辊1与通过镀铝植珠膜进料过辊2送来的镀铝植珠膜共同被导入光辊3与胶辊4的间隙进行复合,通过压辊5传导一定的压力使上胶基布与镀铝植珠膜粘连在一起。出复合点后,粘连在一起的基布与镀铝植珠膜被传送到剥离过辊7上,PET层与反光布在剥离过辊7与反光布出料过辊8之间分离,将分离出的PET层压紧于PET层回收过辊6与光辊3之间,光辊3带动PET层回收过辊6转动,从而达到传送PET层的目的,实现PET层的收卷。剥离PET层后的反光布通过反光布出料过辊8进行回收。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围,则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。 

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